Фокусирование - излучение
Cтраница 1
Фокусирование излучения, приводящее к образованию фокального пятна в зоне Френеля, изучалось как средство улучшения поперечного линейного разрешения в неопубликованной работе Мередита ( R. [1]
 |
Схема конденсационной пайки. 1 - устройство охлаждения. 2 - изделие. 3 - жидкость для пайки. [2] |
Для фокусирования излучения в точке или вдоль линии применяют отражатели эллиптической формы, в ближнем фокусе которого помещается источник, а в дальнем - объект нагрева. Равномерное распределение излучения по поверхности изделия достигается использованием отражателей параболической или гиперболической формы. Рефлекторы изготавливают из хорошо обрабатываемого материала ( медь, латунь, алюминий), а их внутренние поверхности полируют. Использование РЖ-излучения для пайки на ПП поверхностно-монтируемых элементов позволяет проводить соединения как индивидуальным, так и групповым методами. Разделение при групповой пайке зоны обработки на два участка ( на первом производится предварительный нагрев и выравнивание температур платы и компонентов, а на втором - пайка под действием мощного импульса энергии) позволяет уменьшить брак из-за возникновения в соединении больших внутренних напряжений. Для ограничения зоны нагрева и снижения температурного влияния излучения на паяные ЭРЭ применяют защитные маски из металла. На качество паяного соединения важную роль оказывает размер галтели припоя. Эта галтель должна обеспечить равномерную передачу термических и механических напряжений от платы к керамическим пассивным элементам. Рекомендуется массу припоя регулировать таким образом, чтобы размеры галтели не превышали 2 / 3 полной толщины компонента. При большем размере могут произойти отслаивания торцевого электронного вывода или возникнуть напряжения вблизи верхних углов галтели и в керамике. [3]
Система фокусирования излучения ОКГ предназначена для передачи и формирования лазерного излучения, а также для поддержания необходимой плотности мощности излучения на обрабатываемой поверхности. Для этого могут использоваться как простые линзы и зеркала, так и специальные линзовые, зеркальные или комбинированные оптические системы. Система фокусирования служит также для визуального наблюдения за зоной обработки путем вывода изображения к бинокуляру, проекционному экрану оператора или на телевизионный экран. [4]
При кварцевой оптике для фокусирования излучений около 254 ммк более эффективна лампа СВД-120А ( со стеклом УФС-1) или лампы ПРК, работающие в режиме тлеющего разряда. [5]
Проведенный анализ показал, что оптимальными условиями является фокусирование излучения лазера в наиболее совершенную часть кристалла с помощью линзы. При реалистических параметрах излучения лазера для линзы с фокусным расстоянием 5 - Ю см эта область имеет линейные размеры несколько десятых миллиметра. Таким образом, кристаллическая пластинка толщиной, не превышающей длину упомянутой цилиндрической области, имеющая совершенный участок размером более диаметра сфокусированного луча, будет генерировать вторую гармонику фактически при тех же условиях, что в крупный кристалл, помещенный в параллельный пучок. Для расчета величины нелинейной восприимчивости кристалла необходимо регистрировать осцилляционную зависимость интенсивности второй гармоники I2u, при изменении его оптической толщины. Обычно это достигается путем разворота кристалла относительно лазерного пучка. Изменение температуры кристалла приводит к тому же эффекту, не изменяя положения кристалла в фокусной области линзы. Одновременно этот способ обеспечивает изучение нелинейных оптических свойств в широком интервале температур. [6]
Например, в экспериментах с рубиновым лазером при фокусировании излучения на плоскую углеродную мишень с длительностью импульса At 20 не, интенсивностью F 109 - г - 1011 Вт / см2 и диаметром пятна фокусировки d 10 - 4м после десяти импульсов лазера образуется кратер с характерным отношением hid порядка единицы. Глубина кратера увеличивается при увеличении длительности импульса. [7]
 |
Схема управления перемещением лазерного луча в пространстве при упрочнении. [8] |
Для получения зоны воздействия в виде кольца применяют оптическую систему фокусирования излучения ОКГ с аксиконной системой. [9]
 |
Лазерный взрыв в жидкости. [10] |
На рис. 2.45 показаны теневые снимки пробоя в воде при фокусировании излучения рубинового лазера. [11]
На рис. 2.27 показаны теневые снимки пробоя в воде при фокусировании излучения рубинового лазера. В работах [147; 148] показано, что при дальнейшем увеличении мощности область четочных пробоев сливается а единую пить. Одной из важнейших причин распространения че-гочиых пробоев и нитевидных структур является формирование мощного излучения вынужденного рассеяния Мандельштама - Бриллюэна ( ВРМБ) или вынужденного комбинационного рассеяния ( ВКР) нз фокальной области. В инициировании лазерного пробоя определяющую роль играет наличие микроскопических пе-однородностей, которые могут обладать значительным коэффициентом поглощения и вызывать локальный нагрев. [12]
 |
Схема расположения ЗТВ в плане ( а и в продольном сечении ( б при линейном упрочнении. [13] |
Из рассмотренных выше способов формирования зон лазерного воздействия видно, что наиболее просто процесс упрочнения излучением лазера может быть реализован при фокусировании излучения сферической и цилиндрической оптикой. Однако в случае использования импульсного излучения формирование профиля имеет ряд особенностей в зависимости от вида оптики. [14]
 |
Оптическая линия связи с использованием лазера. [15] |
Страницы: 1 2