Cтраница 5
Электронный луч с требуемыми свойствами формируется в электронной пушке. Для фокусировки электронного луча значительной мощности в пятно возможно меньшего сечения сводят к минимуму влияние погрешностей электронной оптики, взаимного отталкивания электронов в пучке, тепловых скоростей электронов, рассеивания электронов на молекулах остаточных и выделяющихся в процессе сварки газов и паров. Добиваются сохранения высокой удельной мощности пучка на большом расстоянии от пушки. [61]
В такой лампе узкий пучок электронов, создаваемый источником, проходит внутри густой проволочной спирали к коллектору, являющемуся анодом. Для улучшения фокусировки электронного луча лампа помещена внутри катушки, по которой проходит постоянный ток. К концу спирали, присоединенной к катоду, подводятся электромагнитные колебания. [62]
Аноды имеют диафрагмы, которые ограничивают угол расхождения пучка электронов, вырезая из всего пучка электроны, движущиеся под относительно малым углом по отношению к оси. Это улучшает фокусировку электронного луча, уменьшая раз-меры светового пятна. Вследствие срезания части электронов диафрагмами анодов ток луча, приходящего на экран, оказывается меньше тока катода. [63]
Однако он значительно больше видикона, сложнее его в управлении п стоит дороже. ФОС служит для фокусировки электронного луча трубки, а также для отклонения его в горизонтальном ( по строкам) и в вертикальном ( по кадрам) направлениях. ФОС обычно имеет вид полого цилиндра, состоящего из ряда катушек, в к-рый помещается передающая трубка. [64]
Однако он значительно больше видикона, сложнее его в управлении и стоит дороже. ФОС служит для фокусировки электронного луча трубки, а также для отклонения его в горизонтальном ( по строкам) и в вертикальном ( по кадрам) направлениях. ФОС обычно имеет вид полого цилиндра, состоящего из ряда катушек, в к-рый помещается передающая трубка. [65]
При дифракции электронов используются монохроматическое излучение и постоянные геометрические соотношения между падающим пучком и дифрагирующими образцами. Возможность электромагнитного отклонения и фокусировки электронного луча обеспечивает большую гибкость при конструировании приборов для дифракции электронов. Характерной чертой всех методов дифракции электронов является работа в вакууме и использование стабильного высоковольтного питания для обеспечения постоянной длины волны. Кроме этих общих положений, следует различать дифракцию на прохождение тонких образцов и дифракцию на отражение, которая имеет место в тонком поверхностном слое образца. [66]