Формирование - слой
Cтраница 2
При этом формирование слоя происходит за два прохода за счет перекрывающих друг друга валиков. [16]
Здесь идет формирование оловянного слоя. Узел Б является как бы отделочным, в нем совмещаются два вида процессов: чисто механическое воздействие - для обеспечения заданных размерных параметров покрытия и физико-химические процессы, способствующие равномерному растеканию олова на поверхности белой жести. [17]
Адгезия и формирование слоя прилипших частиц и покрытия происходят во времени. Обычно это время сравнивают со временем: зарядки частиц в электрическом поле. Причем для каждого материала время адгезии может быть различным. [18]
По окончании формирования слоя устраивают поверхностную обработку. [19]
От условий формирования слоя зависит плотность упаковки частиц. Поэтому в приборах для определения УЭС пыли наиболее правильно было бы формировать слой под воздействием электрических сил в поле коронного разряда. [20]
Изложены вопросы формирования слоя осадка в процессе фильтрования суспензий на лотковых вакуум-фильтрах. Приведены фактические данные замеров толщины осадка на ковшах фильтра. Рассмотрены особенности наливного фильтрования. [21]
В процессе формирования слоя диэлектрика образуется также тонкий полупроводящий оксид титана между пятиокисью и металлом. Присутствие полупроводникового слоя является единственной причиной того, что ТК являются полярными. Фирмы-изготовители рекомендуют снижать напряжение на конденсаторе на 50 % и более от напряжения UR для еще большего повышения его надежности. Это вызвано очень большой напряженностью электрического поля в конденсаторе. [22]
Второй этап формирования гидроизолирующего кольматационного слоя в проницаемых породах характеризуется активным проявлением эффектов, связанных с поверхностными силами. Обусловлено это проявлением как исходных реологических свойств суспензий вследствие их эффективной гидродиспергации и гидратации, так и изменением этих свойств при столкновении высокоскоростных струй со стенкой скважины. [23]
 |
Зависимость толщины пленки фоторезиста на основе продукта 83 и новолака от числа оборотов центрифуги при различных. [24] |
Операцией, завершающей формирование слоя фоторезиста, является сушка. Сушку фоторезиста, как правило, проводят при температуре 60 - 100 С в течение 20 - 60 мин. Так, например, сушка фоторезиста типа ФН-102 осуществляется в течение 30 мин при 60 - 70 С, либо 20 мин при 90 - 100 С. Экспонирование фоторезиста может осуществляться через фотошаблон контактным и проекционным способом. [25]
 |
Автомат для пакетирования тракторных гусениц. [26] |
На столе-накопителе происходит формирование слоя. [27]
Окончательное уплотнение и формирование построенного слоя происходят под воздействием колес автомобилей. В течение 15 - 20 сут осуществляют уход за построенным покрытием при уплотнении катками с металлическими вальцами и в течение 5 - 10 сут - при уплотнении пневмоколесньши и вибрационными катками. Продолжительность ухода за основанием сокращается вдвое. [28]
Наиболее сильно время формирования слоя влияет на коалесценцию при дистиллированной воде. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5