Cтраница 2
Из новых нереверсивных сред упомянем фотополимеры, фоторезисты, слои хромированной желатины, системы полупроводник - металл, металлические пленки. В основе их работы лежат самые различные физические явления, и они могут использоваться как амплитудные и как фазовые среды. [16]
В зависимости от толщины слоя фотополимера фоторезист при производстве обычных и многослойных ПП используется для защиты при травлении, селективной металлизации и селективном наращивании слоев металлов путем гальванической металлизации, а также защиты отверстий при химической очистке. [17]
Гораздо раньше, чем рассмотренные выше фотополимеры, в практике фотолитографии нашли применение композиции, основанные на фотоструктурировании, часто с помощью сенсибилизаторов, относительно простых полимерных винильных соединений. Поливинилфурилак-рилат обладает высокой светочувствительностью и может структурироваться без действия сенсибилизаторов. [18]
На слой диазосмолы можно наносить компоненты фотополимера из ненасыщенного полиуретана, ацетата-фталата целлюлозы, сенсибилизаторов - кетонов, натриевой соли п-фенолсульфокислоты. Обработки включают рельефообразующее экспонирование, которое вследствие кратковременности достаточно лишь для фотолиза диазосмолы, проявление, интенсивное сплошное экспонирование или нагрев до 200 - 250 С с целью отверждения фотополимерного слоя рельефа. Так полученная на алюминии печатная форма позволяет сделать до 400 тыс. хороших отпечатков [ пат. [19]
В этой главе рассматриваются общие свойства фотополимеров и их применение в бессеребряных копировальных слоях. Что касается изготовления из фотополимеров оригинальных типографских печатных форм, то этот вопрос рассматривается в следующей главе. [20]
На слой диазосмолы можно наносить компоненты фотополимера из ненасыщенного полиуретана, ацетата-фталата целлюлозы, сенсибилизаторов - кетонов, натриевой соли л-фенолсульфокислоты. Обработки включают рельефообразующее экспонирование, которое вследствие кратковременности достаточно лишь для фотолиза диазосмолы, проявление, интенсивное сплошное экспонирование или нагрев до 200 - 250 С с целью отверждения фотополимерного слоя рельефа. Так полученная на алюминии печатная форма позволяет сделать до 400 тыс. хороших отпечатков [ пат. [21]
![]() |
Технология изготовления печатных монтажных схем ( PWB. вопросы охраны окружающей среды, здоровья и безопасности. [22] |
Сухой пленочный резист - чувствительный к UV фотополимер. Резист для печати через экран - чувствительная к свету эмульсия. [23]
При экспонировании светом гелий-неонового или рубинового лазера раствор фотополимера превращается в твердую пластмассу. Будучи самопроявляющимся при экспонировании, материал может быть фиксирован путем засветки ультрафиолетовой лампой. Тонкие пленки ( от 5 до 25 мкм) между стеклянными пластинами обычно требуют экспозиции от 5 - 10 - до 5 - 10 - Дж / смг. С пленками толщиной более 100 мкм может быть записана объемная голограмма благодаря изменениям коэффициента преломления. [24]
По этой причине авторы сочли нецелесообразным помещать специальный раздел о фотополимерах в данной монографии, осветив только в гл. [25]
Для полиграфии и микрорадиоэлектроники из бессеребряных светочувствительных материалов наибольшее значение имеют фотополимеры ( фоторезисты) - при получении печатных форм и производстве полупроводниковых приборов. Диазопленки в перспективе могут частично заменить некоторые фототехнические пленки. Диазопленки в полиграфии и картографии применяют также для получения промежуточных оригиналов и абрисных изображений. [26]
В основе процесса стереолитографии лежит принцип послойного наращивания изделия путем полимеризации жидкого фотополимера под воздействием УФ-излучения лазера. [27]
Уникальным свойством этого материала является то, что при записи информации на фотополимер, чувствительный к ультрафиолетовому излучению, информация может быть воспроизведена с помощью видимого света, к которому материал не чувствителен. [28]
Этот полимер отличается по своим свойствам как от аценафтилена, так и от фотополимеров. Эту величину авторы многократно получали как крио-скопическим, так и эбулиоскопическим способом. При окислении полимер дает нафталевую кислоту. При нагревании выше температуры плавления ( около 350 С) полимер разлагается с частичным выделением аценафтилена. [29]
В настоящее время для создания рельефных слоев - печатных форм в полиграфии - нашли применение так называемые фотополимеры - продукты индуцированной светом полимеризации ненасыщенных ( в основном с этиленовыми связями) мономеров и олигомеров. Техническая литература по этим материалам весьма обширна. Она может явиться предметом отдельной монографии. [30]