Cтраница 1
Фоторазложение инициируется введением в цепь фоточувствительных звеньев, например СО-групп, или смешением полимеров с фоточувствительными веществами или инициаторами, в частности ароматическими кетонами или комплексами металлов. Окисленные полимеры хорошо биоразлагаются в присутствии микроорганизмов. [1]
Фоторазложение красителя может происходить при возбуждении соединений, которые вместе с молекулами красителя образуют единую систему. [2]
Фоторазложение вискозы, окрашенной кубовыми красителями, может быть предотвращено полностью или частично, в зависимости от природы красителя, введением в пряжу подкисленного формальдегида и нагреванием при 100 или использованием тиомочевино-формальдегидной пропитки, применяемой также для противосми-наемой отделки ( пропитка, сушка и термообработка при 130 в присутствии кислого катализатора) 95 а также последующей обработкой продуктом реакции формальдегида с дициандиамидом или мелами-ном. При такой обработке формальдегидом вероятно образуются перекрестные связи между гидроксильными группами соседних целлюлозных цепей вследствие вступления метиленовых или более сложных групп, образующихся при конденсации формальдегида с мочевиной или подобными соединениями. Тем самым уменьшается число гидроксильных групп, способных к окислению. По патентным данным, стойкость целлюлозных волокон, окрашенных кубовыми красителями, к действию света повышается при обработке растворами солей низших окислов марганца, кобальта, свинца или меди. [3]
Фоторазложение гидроокиси фенилртути CeH6HgOH в CH3OD или C2H6OD дает бензол, не содержащий дейтерия. Его также не оказалось в связях С - Н спиртов после реакции. [4]
Фоторазложение фотохромного слоя определяется скоростью необратимых фотохимических реакций, которые еще недостаточно хорошо изучены, особенно в полимерных слоях. Светостойкость зависит от спектрального состава действующего на слой света и от спектров поглощения матрицы и фотохромных соединений. Поглощение молекулами матрицы активирующего света приводит к появлению тушащих продуктов, например радикалов, и к разрушению слоя. Увеличение стойкости матрицы может быть достигнуто введением в матрицы поглощающих устойчивых к свету све-тостабилизаторов и элиминированием светофильтрами коротковолнового света, поглощаемого только матрицей ( см. гл. [5]
![]() |
Энергетические уровни биацетила и Co ( NH3 g. [6] |
Фоторазложение комплексной соли в этом случае может идти двумя путями. Бензофенон в триплетном состоянии может участвовать в реакциях отрыва водородного атома от молекулы растворителя, давая свободные радикалы, которые и восстанавливают исходные комплексы. В других случаях, вероятно, имеет место перенос энергии возбуждения. [7]
Фоторазложение адсорбента полупроводникового типа ( окиси, галогениды тяжелых металлов) начинается обычно с первичного фотоэлектрического эффекта, последующего закрепления электрона и агрегации атомов металла в коллоидные частицы. Этот процесс хорошо исследован для галоидных солей серебра, но и в других полупроводниках наблюдаются аналогичные явления потемнения, иногда, как например в случае сернистого цинка или галоидных солей одновалентной меди, обратимо исчезающие после экспозиции. Такие обратимые, так называемые фототропные изменения, напоминающие центры окрашивания серебряно-галоидных солей, обнаруживают во многом сходное с ними поведение. Характерное влияние температуры, заключающееся в отсутствии эффекта при глубоком охлаждении и в его быстрой регрессии с повышением температуры, свидетельствует о первичном электронном механизме их происхождения. [8]
Порог фоторазложения бензальдегида, который равен 2400 А в газовой фазе, перемещается до 2500 А, когда он адсорбирован на алюминии, и до 3300 А, когда он адсорбирован на слое пористой меди. Следовательно, наблюдается смещение в сторону больших длин волн. [9]
Продукты фоторазложения солей диазония в водных растворах, по-видимому, хорошо объясняются простым распадом в первичном процессе ( XLI) на молекулярный азот и карбониевый ион. [10]
При фоторазложении дифенилртути ( C6H6) 2Hg в тяжелом бензоле C6D6 получаемый дифенил содержит значительное количество дейтерия. В этом случае в образовании дифенила принимают участие фенильные радикалы как из дифенилртути, так и из бензола. Также переходит дейтерий в дифенил при реакции пентафенилфосфора Р ( СвНб) 5 с C6D6, но в образовании дибен-зила из дибензилртути ( CeH5CH2) 2Hg и толуола С6О6 - СНз последний участия не принимает: получаемый при фоторазложении дибензил не содержит дейтерия. [11]
При фоторазложении дибензилртути в среде дейтеротолуола получен дибензил, не содержащий дейтерия, что указывает на значительно большую скорость реакции димеризации бензильных радикалов, чем реакции отрыва ими водорода от толуола. [12]
При фоторазложении дифенилртути в тяжелом бензоле [343] передача радикальной цепи обнаруживается достоверно. Такое различие может быть объяснено, по-видимому, тем, что фотохлорирование протекает в значительно более мягких температурных условиях и в условиях, исключающих сколько-нибудь длительное существование свободных радикалов, немедленно реагирующих с хлором. [13]
Таким образом фоторазложение, как и окисление метурина двуокисью свинца протекает по радикальному механизму через промежуточное образование 1-метилкарбамоил-г 1-фенилазогг-окисного радикала. [14]
Квантовый выход фоторазложения таких солей диазония вели и не зависит от природы растворителей. Преимуществом диазосоединений этого типа является такж и то, что они имеют интенсивный максимум в спектре поглощения лежащий на границе УФ и видимой части спектра. [15]