Фотоструктурирование
Cтраница 1
Фотоструктурирование полимерных циклопропеновых производных, например 1 2-дифенил - или 1 2-дипропилциклопропенкарб-оксилатов ПВС, происходит в 5 - 10 раз быстрее, чем поливинил-циннаматов. [1]
Фотоструктурирование полимерных циклопропеновых производных, например 1 2-дифенил - или 1 2-дипропилциклопропенкарб-оксилатов ЛВС, происходит в 5 - 10 раз быстрее, чем поливинил-циннаматов. [2]
Скорость фотоструктурирования ПЦИ в присутствии соединения ( II) снижается при увеличении концентрации ( II) в слое, что позволяет считать это соединение УФ-абсорбером для полимерной пленки. [3]
 |
С. Позитивная форма фирмы Тогау ( Япония для офсетной печати без увлажнения. [4] |
При исследовании фотоструктурирования насыщенных карбоцепных полимеров ( ПИБ, бутилкаучуков - БК, этилен-про-пиленовых сополимеров - СКЭПТ) азидами были определены условия их использования в качестве светочувствительной основы слоев для сухого офсета [63] ( табл. VI. [5]
 |
Позитивная форма фирмы Тогау ( Япония для офсетной Печати без увлажнения. [6] |
При исследовании фотоструктурирования насыщенных карбоцепных полимеров ( ПИБ, бутилкаучуков - БК, этилен-про-пиленовых сополимеров - СКЗПТ) азидами были определены условия их использования в качестве светочувствительной основы слоев для сухого офсета [63] ( табл. VI. Интегральная светочувствительность, отражая начало возникновения ( Snop) и скорость нарастания ( 50 5, tg а) слоя пространственно-сшитого полимера, не характеризует плотность образующихся поперечных связей, поэтому методом равновесного набухания были определены параметры пространственной сетки фотоструктурированных слоев. [7]
К третьему типу относится фотоструктурирование полимеров ( почти всех натуральных или синтетических высокомолекулярных веществ) бифункциональными мономерами, например диэфирами акриловой кислоты и гликолей или аналогичными диакрилдиами-дами. При этом полимерный компонент оказывается блокированным трехмерной сетчатой структурой связанных остатков мономера. [8]
Бифункциональные азиды, перспективные для фотоструктурирования полимеров, как правило, синтезируют на базе ароматических моноазидов, объединенных в одной молекуле с помощью системы простых, а чаще всего сопряженных связей. В принципе, их фотохимические реакции не должны сильно отличаться от реакций моноазидов. [9]
Известно, что для циклополиизопрена превалирующим является фотоструктурирование, в то время как в даммаре при конкурирующих процессах фотодеградации и сшивания, преобладает деградационный процесс. Это позволяет относить последнюю к типу фотонесшиваемых полимеров. [10]
Так как эта скорость второй ступени фотолиза определяет интенсивность фотоструктурирования полимера, то, естественно, ее рост благоприятно сказывается на практически ценных характеристиках фоторезистивной композиции, тогда как падение общего квантового выхода фотолиза снижает общую светочувствительность системы. [11]
Гораздо раньше, чем рассмотренные выше фотополимеры, в практике фотолитографии нашли применение композиции, основанные на фотоструктурировании, часто с помощью сенсибилизаторов, относительно простых полимерных винильных соединений. Поливинилфурилак-рилат обладает высокой светочувствительностью и может структурироваться без действия сенсибилизаторов. [12]
Книга - совместный труд ученых СССР и ГДР - посвящена описанию наиболее важных фотохимических процессов ( в том числе фотографических, фотохромных, фотоструктурирования и фотодеструкцни полимеров), имеющих большое значение для развития науки и промышленности, а также широко распространенных ( например, фотосинтез) в природе. [13]
По исчезновению полосы азидогруппы в ИК-спектре определялся квантовый выход фотолиза азидов в полимерах, и с учетом образования нитрена для каждой длины волны и используемого полимера устанавливалась эффективность его фотоструктурирования: оказалось, что для ДЦГ квантовый выход фотолиза зависит от длины волны и природы полимера. Отношение увеличения высоты фоторельефа ( в микрометрах) к количеству фотолизованного азида ( в молях), определяющее скорость образования пространственных структур, названо молекулярным коэффициентом сшивки ( МКС) ( мкм / моль) [87]; коэффициент впервые учитывает в сложном процессе фотоструктурирования скорость взаимодействия нитренов с полимерами. [15]
Страницы: 1 2