Термическая диссоциация - иодид
Cтраница 1
Термическая диссоциация иодидов начинается при 1100; с повышением температуры скорость ее увеличивается. Однако выше 1500 - 1550 скорость отложения титана замедляется вследствие возрастания скорости испарения металлического титана. Скорость отложения титана зависит также от давления паров ТП4 в аппарате и расстояния между зоной образования ио-дида и накаленной нитью. При повышении давления до 15 мм рт. ст. скорость отложения титана растет, а затем начинает уменьшаться. Это объясняется возникновением градиента парциальных давлений паров иода, препятствующего диффузии. [1]
Термическая диссоциация иодидов начинается при 1100; с повышением температуры скорость ее увеличивается. Однако выше 1500 - 1550 скорость отложения титана замедляется вследствие возрастания скорости испарения металлического титана. Скорость отложения титана зависит также от давления паров TiI4 в аппарате и расстояния между зоной образования ио-дида и накаленной нитью. При повышении давления до 15 мм рт. ст. скорость отложения титана растет, а затем начинает уменьшаться. Это объясняется возникновением градиента парциальных давлений паров иода, препятствующего диффузии. [2]
 |
Аппарат для иодидного рафинирования титана.| Скорость отложения титана на нити в зависимости от температуры губки. [3] |
В высокотемпературной зоне происходит термическая диссоциация иодидов; титан отлагается на накаленной металлической нити, а иод возвращается в зону реакции образования иодидов. [4]
Чистейший металл получается методом термической диссоциации иодидов. [5]
Металлический ванадий получают посредством термической диссоциации иодида ванадия ( П) VI2 при 900 в вакууме; для этого используют аппаратуру, применяемую для получения металлического титана по методу Ван-Аркеля - де Бура. [6]
Чистый металлический лантан получают термической диссоциацией иодида лантана LaI3 по способу Боера и Фаста. [7]
В работе изложены результаты исследования борирования молибдена путем термической диссоциации иодида бора при низких давлениях в интервале температур 1200 - 1600 К. [8]
 |
Свойства при растяжении ванадиевотитановых сплавов. [9] |
Наиболее чистый металлический ванадий может быть - получен методом термической диссоциации иодида ванадия путем осаждения металла из парообразной фазы замкнутого объема реактора на металлической вольфрамовой проволоке. [10]
 |
Состав иодидиого и магниетермического титана, %. [11] |
Для получения титана высокой чистоты в ограниченных масштабах используют метод термической диссоциации иодида титана. Иодидное рафинирование позволяет более глубоко удалить Из титана ряд примесей. [12]
Металлический лантан получают металлотермическим восстановлением окиси или галогенидов лантана, термической диссоциацией иодида лантана и электролизом расплавленных галогенидов лантана. [13]
Ванадий высокой степени чистоты был получен восстановлением пятиокиси V2O5 кальцием, а также термической диссоциацией иодида ванадия VJ2 на вольфрамовой проволоке. [14]
В работе [228] показана возможность осаждения бора и получения боридных покрытий на молибдене вследствие термической диссоциации иодида бора на нагретой поверхности металла в вакууме в интервале температур 1000 - 1600 К. [15]
Страницы: 1 2