Техническая характеристика - установка
Cтраница 2
Техническая характеристика установок приведена ниже. [16]
 |
Схема моечной машины ОМ-5359. [17] |
Техническая характеристика установки: расход воды - 1000 кг / ч; рабочее давление воды - 10 МПа; гидродинамическая мощность - 2 7 кВт; температура воды - 30 - 80 С; расход керосина - 5 - 13 кг / ч; продолжительность нагрева воды 3 - 4 мин; установленная мощность - 5 кВт; габаритные размеры - 128x940x1110 мм; масса - 430 кг. [18]
Техническая характеристика установки: производительность - до 100 см2 / мин; наибольший диаметр восстанавливаемой детали - 100 мм; наибольшая длина - 1000 мм; максимальная толщина привариваемой ленты - 1 мм; мощность - 35 кВ А; габаритные размеры - 1900x1200x1500 мм; масса - 950 кг. [19]
 |
Восстановление изношен. [20] |
Техническая характеристика установки: производительность - до 100 см2 / мин; толщина привариваемого слоя - 0 3 - 1 2 мм; наибольший диаметр восстанавливаемой детали - 20 - 150 мм; наибольшая длина - до 1200 мм; мощность - 50 кВ А; частота вращения шпинделя - 0 15 - 15 мин 1; скорость перемещения сварочной головки - 4 5 - 450 мм / мин; габаритные размеры - 2400x1000x1800 мм; масса - 1200 кг. [21]
Технические характеристики установки следующие. [22]
Технические характеристики установки следующие: скорость резки стекла переменная до 3 5 м / с, максимальная высота профиля 60 мм, ширина стекла 600 мм при толщине до 10 мм. Охлаждение водяное с расходом воды при давлении 1 5 - 105 Па до 10 л / мин. [23]
 |
Многоцелевая лазерная установка Катунь. [24] |
Технические характеристики установок следующие. [25]
Техническая характеристика установки 1ЭЦН6 - 250 - 800 следующая. [26]
Техническая характеристика установок для очистки деталей в хлорированных углеводородах приведена в табл. 2.1. Такую обработку целесообразно применять после полировки деталей сухими пастами. [27]
 |
Гидроэлеватор и узел крепления его к нижнему конусу. [28] |
Техническая характеристика установки приведена ниже. [29]
Техническая характеристика установки Т 089.01 для наращивания эпитаксиальных слоев приведена ниже. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5