Cтраница 5
Поэтому, для увеличения частоты генерации в системе с виртуальным катодом необходимо увеличивать плазменную частоту пучка ир и уменьшать влияние ионного фона на динамику виртуального катода. [61]
Зависимость эффективного параметра Пирса аэф / а в области виртуального катода от плотности ионного слоя п. Здесь о соответствует. [62] |
Заметим, что рост частоты генерации определяется скоростью развития неустойчивости в пучке со сверхкритическим током, которая, в свою очередь, зависит от значения эффективного параметра Пирса эф в области виртуального катода. [63]