Cтраница 2
Процессы, происходящие при излучении в пламени изучались С. Л. Мандельштамом и В. Г. Алексеевой 19 - 24, а в работах Н. Н. Соболева, Э. М. Ме-жеричера и Г. М. Родина 25 было дано теоретическое обоснование формы кривой зависимости интенсивности излучения элемента от его концентрации. [16]
Это связано с тем, что равновесие в этом случае смещается в сторону образования неионизированных нейтральных атомов, которые при возбуждении и излучают волны определенной длины. Эффектом другого типа является уменьшение интенсивности излучения элемента в присутствии большого количества кислот или солей. [17]
Пламенный фотометр служит для измерения интенсивности излучения элементов, возбуждаемых пламенем газовой горелки. [18]
Пламенный фотометр служит для измерения интенсивности излучения элементов, возбуждаемых пламенем газовой горелки. [19]
Помехи, связанные с образованием в пламени на стадии испарения растворителя новых термически устойчивых соединений, например алюминатов или фосфатов, при совместном присутствии солей щелочноземельных металлов и алюминия или фосфат-иона. Влияние катионов и анионов, снижающих интенсивность излучения элементов в пламени, называют катионным или анионным эффектом. [20]
Метод основан на измерении интенсивности излучения элементов в пламени; определение проводят с помощью фотоэлементов и гальванометра. В определенном интервале наблюдается прямая зависимость интенсивности излучения элемента от его концентрации в анализируемом образце. В настоящее время метод продолжает развиваться, круг определяемых элементов непрерывно увеличивается. [21]
Метод буферирования основывается на отмечавшемся многими исследователями особом характере воздействия различных веществ на интенсивность излучения элемента в пламени. Первые порции добавляемого элемента вызывают большей частью резкое увеличение или уменьшение интенсивности излучения элемента, последующие же порции влияют в меньшей степени или же совсем не влияют. [22]
Заметим, что, по данным Хуль-дта и Лагерквиста 13, испарение окислов магния, кальция и стронция происходит с разложением на элементы, как и в случае щелочных металлов. Образование труднолетучих окислов в присутствии различных кислот делает возможным влияние аниона кислоты на интенсивность излучения элемента в пламени. [23]
Так, прямое измерение температуры пламени позволяет установить, что действие органических растворителей, приводящее к увеличению интенсивности излучения элементов в пламени, не связано со значительным увеличением температуры пламени. Если воздействие постороннего вещества сохраняется при его введении в пламя через другой распылитель, то, следовательно, добавленное вещество влияет на процессы, происходящие в газах пламени, и реагирует в газообразном состоянии. [24]
Неизвестную концентрацию какого-либо элемента определяют путем сравнения интенсивности излучения этого элемента в анализируемой пробе с интенсивностью излучения в эталоне при их возбуждении в источнике. Зависимость интенсивности излучения элемента не только от его концентрации, но и от химического и минералогического состава пробы создает основные трудности в практике спектрального анализа и требует близкого сходства состава анализируемых проб и эталонов. Состав пробы определяет условия возбуждения спектра, а отдельные элементы пробы не эквивалентны в этом отношении. Например, изменение содержания кремния в почве на 5 - 10 % не вызовет заметных изменений в условиях возбуждения, в то время как изменение содержания калия и натрия на 1 - 2 % может вызвать значительное изменение этих условий. [25]
Этот эффект, наблюдавшийся Н. С. Полуэктовым совместно с Л. А. Овчар и Р. А. Виткун 74 - 75, заключается в следующем. При малых концентрациях солей редкоземельных элементов ит-триевой подгруппы в растворе наблюдается непропорционально быстрое снижение интенсивности излучения с уменьшением концентрации и угловой коэффициент графика в координатах lg / - lg С становится больше единицы. В присутствии другого редкоземельного элемента ( например, Се) в больших концентрациях ( 1 мг / мл) интенсивность излучения элементов иттрие-вой подгруппы возрастает и угловой коэффициент графика становится равным единице. Явление с внешней стороны сходно с наблюдающимся при подавлении ионизации щелочных металлов ( см. % гр. Таким образом, церий влияет лишь на поступление элемента в пламя. [26]
Практически важным является увеличение аналитического эффекта - яркости свечения пламени или величины поглощения света при добавлении к распыляемому раствору поверхностно-активных веществ, уменьшающих поверхностное натяжение раствора. Из таких веществ нашли применение спирты, кетоны, уксусная кислота и др. Получаемое увеличение ( в 2 - 3 раза) интенсивности излучения ( или атомного поглощения) используется для повышения чувствительности определения некоторых элементов. Вместе с тем искусственные поверхностно-активные вещества, такие, как дезоген 5 ( снижение о с 72 до 42 дин / см), аэрозоль ОТ ( снижение о до 28 дин / см ] не оказывают никакого влияния6 на интенсивность излучения элементов, а следовательно, и на распыление. Кроме того, действие органических веществ, добавленных к распыляемому раствору, основывается и на других явлениях, о чем будет сказано в следующем разделе. [27]
Как и ожидалось, при увеличении интенсивности излучения напряжение холостого хода повышается, и при очень высоких уровнях светового потока наблюдается его насыщение. Наличие в CdS фоторезистивного эффекта приводит к уменьшению шунтирующего сопротивления элементов с 102 до 7 Ом и последовательного сопротивления-с 0 16 до 0 04 Ом. Напряжение, соответствующее максимальной мощности, при увеличении освещенности повышается. Бриан и Глю [61] наблюдали другую тенденцию: приуменьшении интенсивности излучения КПД элементов на основе Ci S-CdS незначительно возрастает, пока интенсивность не достигнет такого уровня, при котором начинается резкое изменение последовательного сопротивления. При дальнейшем уменьшении интенсивности света КПД элементов, как показано на рис. 4.6, а, существенно понижается. Увеличение интенсивности излучения сопровождается плавным уменьшением шунтирующего сопротивления и ростом последовательного сопротивления. [28]