Cтраница 1
Сжатый осушенный азот с содержанием масла не более 5 мг / м3 применяется для продувки и опрессовки оборудования и коммуникаций, удаления остатков растворителя из аппаратов после обезжиривания, при этом азот подогревают до 333 К. Аппараты из алюминия, обезжиренные четыреххлористым углеродом, продувают подогретым азотом. [1]
Осушенный углеводород из производства полимеризации подается в емкость 1, где хранится над металлическим натрием в атмосфере азота. Выдача углеводорода из емкости / производится выдавливанием сжатым осушенным азотом. [2]
Титановый подслой травится в разбавленном растворе серной кислоты ( 1ХП при 80 - 90 С. Затем подложку промывают дистиллированной водой и смывают фоторезист 10 % - ным раствором NaOH и нейтрализуют в 1 - 2 % - ном растворе соляной кислоты. После этого еще раз тщательно промывают в дистиллированной воде и этиловом спирте, высушивают в струе сжатого, осушенного азота и передают на операцию химической защиты меди. [3]
Для снятия окислов меди проводят декапирование подложек в 1 % - ном растворе соляной кислоты. Остатки кислоты и продукты реакции удаляют промывкой сначала в дистиллированной или деионизованнои воде, а затем - в этиловом спирте. Фоторезист наносят на центрифугу с последующей сушкой в термостате при 363 К в течение 30 мин. На установке совмещения и экспонирования производят совмещение фотошаблона с подложкой и экспонирование. Затем фоторезист проявляют, например, в растворе тринатрийфосфата. Для удаления с поверхности подложки остатков тринатрийфосфата и продуктов реакции подложки промывают в деионизованнои воде и сушат в струе сжатого осушенного азота. Для выявления дефектов полученный защитный слой просматривают под микроскопом и выявленные дефекты ретушируют лаком. Затем проводят термозадубливание фоторезиста сначала при 373 К, а затем при 453 с выдержкой при каждой температуре в течение 30 мин. С целью защиты от воздействия травителей обратную сторону подложки с проводящим слоем защищают химически стойким лаком ХСЛ. [4]