Cтраница 1
![]() |
Картина дифракции для N щелей ( ГМ-главные максимумы. ВМ-вторичные максимумы. пунктиром показан член одиночной щели. [1] |
Интенсивность освещенности в направлениях главных максимумов выражается как квадрат произведения N на амплитуду дифракции от каждой щели в этих направлениях. [2]
Интенсивность освещенности помещений зависит от суммарной площади световых проемов. Необходимой освещенности достигают, варьируя размеры проемов и их количество. При этом учитывают, что боковое освещение эффективней верхнего. [3]
![]() |
Интенсивность солнечного излучения.| Спектральное распределение энергии света. солнечного ( а и от лампы накаливания ( б в зависимости от длины волны А. [4] |
По интенсивности освещенности и равномерности искусственное освещение внутренних помещений даже превышает дневное освещение. С помощью искусственных источников света можно обеспечить почти любую интенсивность освещенности с абсолютной равномерностью, в то время как дневной свет подвержен постоянным колебаниям. [5]
![]() |
Функциональная схема фазового считывания. [6] |
Характер распределения интенсивности освещенности в пределах шага для различных положений муаровой полосы показан на рис. 8.46, б, а на рис. 8.46, в показаны величины фототоков в каждом из фотоприемников в соответствии с этой освещенностью. Минимальная освещенность соответствует середине муаровой полосы. [7]
Время нарастания и спадания фототока зависит от интенсивности освещенности, причем это время значительно уменьшается при больших освещенностях. Постоянная времени также зависит от способа приготовления порошка; обычно большие ее значения соответствуют более высокой чувствительности порошков. С другой стороны, фотоэлементы с монокристаллами и с пленкой изготовленной методом спекания, обычно имеют меньшую постоянную времени в сравнении с фотоэлементами, у которых фоточувствительная пленка изготовлена из порошка. Таким образом, постоянная времени может изменяться в очень широком диапазоне от миллисекунд до секунд. [8]
![]() |
К многолучевой интерференции. [9] |
На рис. 24, а показано распределение интенсивности освещенности при двухлучевой интерференции, а на рис. 24, б - при многолучевой интерференции. На рис. 24, в показаны при многолучевой интерференции полосы равного наклона ( кольца Ньютона) в проходящем свете, а на рис. 24, г - в отраженном свете. [10]
![]() |
Процесс темнового спада на усталых и отдохнувших пластинах. [11] |
В процессе экспонирования отдельные участки фотослоя деполяризируются пропорционально интенсивности освещенности, действовавшей на эти участки. [12]
Плотность потока излучения, падающего на экран, Е ( интенсивность освещенности или просто освещенность) изменяется вследствие отклонения лучей. [13]
В конце следующего раздела мы узнаем, как рассчитывать, где именно расположены яркие, темные точки и точки с промежуточной интенсивностью освещенности. [14]
![]() |
Схема установки для де - [ IMAGE ] Имитация. [15] |