Межэлектродная вставка

Cтраница 1

Технические данные термоэмиссионных катодов. [1]

Межэлектродная вставка ( МЭВ) - участок разрядной камеры плазмотрона между катодом и анодом, изолированный от них. Назначение МЭВ состоит в повышении напряжения на дуге и увеличении таким образом мощности плазмотрона. Используется несколько видов МЭВ. [2]

Через межэлектродную вставку тангенциально подается основная масса рабочего тела, а через торец электрода - дополнительная порция рабочего тела. [3]

Схема плазмотрона с межэлектродной вставкой, состоящей из сплошных секций, и с вводом части газа в межсекционные зазоры. его. [4]

Плазмотроны с газодинамической межэлектродной вставкой ( третья группа) имеют электродные узлы, аналогичные узлам плазмотронов двух первых групп. [5]

В плазмотронах с межэлектродной вставкой последняя играет роль стабилизирующего канала. [6]

В электродуговых подогревателях с межэлектродной вставкой ( схема на рис. 11 - 1 3) при увеличении тока увеличивается также и его плотность, что связано с ограничением диаметра дуги внутренней поверхностью межэлектродной вставки. [7]

Длина дуги стабилизирована секционированной межэлектродной вставкой. Стабилизация прианодного участка дуги осуществляется соответствующим выбором диаметра и длины кольцевого анода. [8]

Общий вид осевого плазмотрона с тугоплавким. [9]

Достигается это наличием специальной конфигурации межэлектродной вставки и подачей защитного инертного газа в катодную область. [10]

Значительно лучшие результаты дают плазмотроны с межэлектродными вставками, с помощью которых достигаются те же мощности, но при значительно ( в ряде случаев на порядок) меньших токах дуги. Так, плазмотрон ГН-5Р обеспечивает получение среднемассовой температуры струи 6000 К при токе 300 - 500 А, а плазмотрон с секционированной МЭВ - при токе 80 А. [11]

Например, ограничение длины дуги достигается применением нейтральной межэлектродной вставки [31, 33] или применением обжимающих диафрагм, длина которых равна или больше указанного выше максимального значения длины дуги. Эти методы управления дугой плазмотрона также позволяют в широких пределах регулировать свойства низкотемпературной плазмы, вытекающей из сопла плазмотрона. [12]

Существенный выигрыш в эффективности обработки материалов дает использование плазмотронов с межэлектродными вставками, которые ограничивают колебания длины дуги и повышают стабильность работы плазмотрона. Эффективны также многодуговые плазмотроны или плазмотроны с распределенными дугами, где пульсация одного участка дуги меньше сказывается на суммарном плазменном потоке. Такие плазмотроны позволяют получить плазменный поток с заданным полем скоростей и температур, а это обеспечивает повышение эффективности обработки материалов. [13]

Схемы промышленных струйных плазмотронов. [14]

Более совершенными, но и более сложными конструктивно являются плазмотроны с изолированной межэлектродной вставкой. [15]

Страницы: 1 2 3