Положительное истинное выравнивание
Cтраница 1
Положительное истинное выравнивание проявляется, как правило, только в присутствии специальных добавок в электролите, так называемых выравнивающих агентов. [1]
 |
Поперечный разрез двухслойного покрытия ( слои / и 2, осажденного из выравнивающего электролита на поверхность с серией параллельных гребней треугольного поперечного сечення. [2] |
Различают три типа микрораспределения: 1) равномерное микрораспределение, или идеальное микрорассеивание; 2) положительное истинное выравнивание; 3) отрицательное выравнивание ( антивыравнивание), называемое также плохим микрорассеиванием. Истинному положительному и отрицательному выравниванию отвечает более высокая скорость электроосаждения металла соответственно в микроуглублениях и на микровыстуиах поверхности. [3]
 |
Поперечный разрез двухслойного покрытия ( слои / и 2, осажденного из выравнивающего электролита на поверхность с серией параллельных гребней треугольного поперечного сечения. [4] |
Различают три типа микрораспределения: 1) равномерное микрораспределение, или идеальное микрорассеивание; 2) положительное истинное выравнивание; 3) отрицательное выравнивание ( антивыравнивание), называемое также плохим микрорассеиванием. Истинному положительному и отрицательному выравниванию отвечает более высокая скорость электроосаждения металла соответственно в микроуглублениях и на микровыступах поверхности. [5]
 |
Эволюция ми про профили при равномерном микрораспре. [6] |
Различают три типа ми-крорасп редел енин: 1) равномерное микрораспределение, или идеальное микрорассеиванис; 2) положительное истинное выравнивание; 3) отрицательное выравнивание ( антивыравннва-пие), называемое также плохим микрорассеиьанием. Истинному положительному и отрицательному выравниванию отвечает более высокая скорость электроосаждения металла соответственно в микроуглублениях и на микровыступах поверхности. [7]
Таким образом, условия формирования зеркально блестящих осадков на поверхности, не обладающей зеркальным блеском, всегда соответствует комбинации положительного истинного выравнивания с полным подавлением процесса формирования кристаллической шероховатости. [8]
Различия в скоростях диффузии каких-либо частиц, влияющих на кинетику процесса электроосаждения, в сочетании с условием эквипотенциальности микропрофиля приводят к неравномерному микрораспределению скорости электроосаждения. В противоположном случае ( кривая 1 - слабое перемешивание, кривая 2 - сильное перемешивание) будет наблюдаться положительное истинное выравнивание. [9]
Различия в скоростях диффузии каких-либо частиц, влияющих на кинетику процесса электроосаждения, в сочетании с условием эквипотенциальности микропрофиля приводят к неравномерному микрораспределению скорости электроосаждения. В противоположном случае ( кривая / - слабое перемешивание, кривая 2 - сильное перемешивание) будет наблюдаться положительное истинное выравнивание. [10]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [11]
Пели рост кристаллической шероховатости в процессе элек - ТроосаЖдения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слои металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрорасцределсиии скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое, выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а п микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное подрастание толщины слоя на микровыстунах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [12]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [13]
В тех случаях, когда скорость электроосаждения металла зависит от условий диффузии каких-либо ионов или молекул к катоду ( от катода), микрораспределение скорости осаждения будет неравномерным. Отрицательное выравнивание ( плохое микрорассеивание) возможно, когда с ростом эффективной толщины диффузионного слоя ( 6) скорость электроосаждения ( при е const) уменьшается, положительное истинное выравнивание - когда с ростом 6 скорость осаждения увеличивается. [14]
Страницы: 1