Геометрическое выравнивание
Cтраница 2
На рис. 79 показано покрытие, полученное из никелевого электролита Ваттса, свободного от добавок. В этом случае геометрическое выравнивание быстро повышается с понижением глубины насечки. Насечка глубиной 23 мкм почти выравнена ( 93 4 %) покрытием толщиной 20 мкм. На рис. 80, а представлено покрытие матовым никелем, на котором отчетливо виден рост кристаллов в направлении линий поля. Покрытие срастается в середине насечки. [16]
 |
Три типа микрораспределения металла.| Изменение профиля при равномерном микрораспределении скорости осаждения. [17] |
По мере осаждения противоположные стороны углублений сближаются. В результате происходит так называемое геометрическое выравнивание - заполнение углублений электро-осажденным металлом. [18]
У насечек с одинаковыми углами и глубиной геометрическое выравнивание увеличивается лрямо пропорционально повышению толщины покрытия до полного выравнивания. У насечек с одинаковым углом и одинаковой толщиной покрытия геометрическое выравнивание уменьшается с увеличением глубины насечки по закону гиперболы. [19]
Так как при действительном выравнивании угол насечки а увеличивается в процессе выравнивания таким образом, что не может быть вычислен, то и доля геометрического выравнивания не может иметь точного определения. Можно только предположить, что в результате увеличения угла а доля геометрического выравнивания уменьшается с увеличением выравнивания. [20]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [21]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [22]
В трех последних графах табл. 44 приведены общие указания относительно чувствительности, специфичности и точности, которых можно ожидать от разных типов метода при различных условиях. Конечно, использовать эти данные надо осторожно, так как в конкретных случаях многое зависит как от характера определяемого вещества, так и от других факторов, связанных с методом определения. Например, однородность жидких растворов способствует высокой точности, тогда как замерзание последних при низкой температуре может приводить к ошибкам, обусловленным изменением показателя преломления и даже пропускания кюветы, если образец погружен в жидкий азот. Аналогично фронтальное освещение твердых растворов вносит ошибку, обусловленную геометрическим выравниванием. В свою очередь величина фона, по-видимому, лимитирует чувствительность одних методов в большей степени, чем других. Мы не останавливаемся здесь на трех последних графах табл. 44, но читателю, возможно, будет полезно вернуться к ним при более детальном обсуждении рассматриваемых методов. [23]
Пели рост кристаллической шероховатости в процессе элек - ТроосаЖдения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слои металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрорасцределсиии скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое, выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а п микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное подрастание толщины слоя на микровыстунах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [24]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [25]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [26]
Выравнивание не должно зависеть от плотности тока. Однако фактически это имеет место лишь IB областях низких плотностей тока. При повышенных плотностях тока, а также при относительно высоком содержании в электролите разря-дослособных ионов в зависимости от угла и глубины насечки в углублении насечки наступает истощение раствора рязрядо-способными ионами. Различия в толщине диффузионного слоя замедляют подачу разрядоепособных ионов, снижая тем самым микрорассеивающую способность. В результате этого снижения выравнивание прекращается, а с ростом толщины покрытия увеличивается шероховатость. Геометрическое выравнивание наблюдается только у электролитов с высокой концентрацией разрядоспособного комплекса, например у кислых электролитов меднения и никелирования. [27]
Страницы: 1 2