Глубина - очистка
Cтраница 1
Глубина очистки зависит от типа адсорбента, его количества ( в / о от сырья) при очистке микродисперсным адсорбентом и кратности его к сырью - при фильтровании через зерненый адсорбент. [1]
Глубина очистки определяется требованиями, предъявляемыми технологией использования газа. [2]
Глубина очистки от серосодержащих соединений зависит от их химического состава и молекулярной массы сырья. При одинаковых условиях легче протекают реакции разложения алифатических соединений серы, труднее всего - производных тиофена. [3]
Глубина очистки в процессе фенолфайнинг зависит от вырабатываемой продукции: в мягких условиях получают компоненты индустриальных масел с индексом вязкости от 65 до 90 для дистиллятных компонентов и от 6О до 80 для остаточных; в жестком режиме процесса получают компоненты моторных и турбинных масел с индексом вязкости 95 - 115 для дистиллятных и 90 - 100 для остаточных. Сырьевые резервуары устанавливаются перед установками. Заключительной стадией является вакуумная сушка деперафини-рованных продуктов. Схема в целом и применяемые технические решения обеспечивают сокращение капиталовложений и эксплуатационных затрат, экономию энергии, уменьшение заводской площадки. [4]
Глубина очистки определяется расходом кислоты; максимальная стабильность масла достигается при оптимальном расходе кислоты. [5]
Глубина очистки от той или иной примеси зависит только от взаимного расположения макро - и микроэлементов в обменном ряду. Если элементы стоят рядом ( например, кобальт п никель), глубина очистки становится вопросом числа экстракционных ступеней. [6]
 |
Холодная ловуш - Л0ки, где и задерживается. Затем натрий. [7] |
Глубина очистки ее примерно такая же, как и ловушки с принудительной циркуляцией. [8]
Глубина очистки в основном зависит от расхода кислоты. Остаточные масла очищают в один прием. [9]
Глубина очистки связана с четкостью разделения сырья принятым реагентом, в нашем случае фенолом. [10]
Глубина очистки растет с увеличением парциального давления, которое зависит от общего давления в системе, расхода подаваемого водородсодержащего газа и концентрации водорода в нем. [11]
Глубина очистки при отстаивании близка к концентрации насыщения примесей, соответствующей температуре в баке. Процесс рекомендуется вести при температуре, близкой к температуре плавления металла. [12]
Глубина очистки зависит от концентрации примесей их электрохимических свойств, скорости подачи раствора и плотности тока. [13]
 |
Принципиальная схема гидроочистки. [14] |
Глубина очистки зависит также от исходного содержания примесей в сырье и режима очистки. [15]
Страницы: 1 2 3 4