Термическое испарение - металл
Cтраница 1
Термическое испарение металлов ( А1, Си, 2п, Т1, Си, Сг, Аи, А §, Р1, 5п, Та, 2п - А1) осуществляют нагреванием их в вакууме ( 10 - 3 - 10 - 5 Па); пары металла конденсируются на охлаждаемой пов-сти полимера. [1]
Термическое испарение металлов в вакууме включает след, операции: 1) нанесение лакового подслоя, 2) собственно металлизация, 3) нанесение защитного лакового покрытия. [2]
По третьему признаку установки классифицируются на установки термического испарения металлов в вакууме с помощью резистивных и электронных испарителей, установки катодного и ионно-плазменного распыления, а также установки для полимеризации в высокочастотном разряде. Обычно в одной установке реализуется несколько классификационных признаков. [3]
 |
Вакуумная камера для нанесения ТОНКИХ ПЛеНОК ТерМИЧеСКИМ ИС. [4] |
Рассмотрим технологию изготовления тонкопленочных интегральных микросхем наиболее распространенным способом - термическим испарением металла в вакуумной камере. Вакуумная камера ( рис. 19) состоит из колпака 3, под которым с помощью вакуумного 5 и диффузионного 6 насосов создается необходимое разрежение. Под колпак помещают распыляемое вещество 4 с нагревателем. [5]
Основными операциями, выполняемыми в цехе, являются осаждение на подложки термическим испарением металлов ( алюминия, титана, сплавов алюминий - золото, медь - золото и др.), а также травление металлических и диэлектрических слоев плазмохимиче-скими, ионоплазменными и ионными методами. Пластины обрабатывают в вакууме либо при непрерывной откачке побочных продуктов реакции. Используемые для этих целей форвакуумные насосы вынесены, как правило, на технические этажи или заменены централизованной форвакуумной откачкой и поэтому непосредственно на территории цехов не представляют пожарной опасности. [6]
Контактным способом можно поляризовать как пленку, не имеющую электродов, так и пленку с электродами из алюминия, золота или других металлов, нанесенных на пленку методом термического испарения металлов в вакууме. Электроды в виде слоя металла, нанесенные термическим испарением металла в вакууме с толщиной слоя не более 0 1 мкм, имеют преимущество перед прижимными электродами. Во-первых, устраняется воздушный зазор между поляризуемой пленкой и электродами и, во-вторых, эти электроды не закорачиваются при электрическом пробое пленки. Целесообразно, чтобы электроды имели участки для подсоединения выводов, под которыми нет противолежащего электрода. Геометрия электродов должна обеспечивать отсутствие краевых разрядов. [7]
Технология металлизации методом термического испарения металла включает следующие операции: нанесение лакового подслоя; металлизация в вакууме; нанесение защитного лакового покрытия. [8]
Контактным способом можно поляризовать как пленку, не имеющую электродов, так и пленку с электродами из алюминия, золота или других металлов, нанесенных на пленку методом термического испарения металлов в вакууме. Электроды в виде слоя металла, нанесенные термическим испарением металла в вакууме с толщиной слоя не более 0 1 мкм, имеют преимущество перед прижимными электродами. Во-первых, устраняется воздушный зазор между поляризуемой пленкой и электродами и, во-вторых, эти электроды не закорачиваются при электрическом пробое пленки. Целесообразно, чтобы электроды имели участки для подсоединения выводов, под которыми нет противолежащего электрода. Геометрия электродов должна обеспечивать отсутствие краевых разрядов. [9]
Контактным способом можно поляризовать как пленку, не имеющую электродов, так и пленку с электродами из алюминия, золота или других металлов, нанесенных на пленку методом термического испарения металлов в вакууме. Электроды в виде слоя металла, нанесенные термическим испарением металла в вакууме с толщиной слоя не более 0 1 мкм, имеют преимущество перед прижимными электродами. Во-первых, устраняется воздушный зазор между поляризуемой пленкой и электродами и, во-вторых, эти электроды не закорачиваются при электрическом пробое пленки. Целесообразно, чтобы электроды имели участки для подсоединения выводов, под которыми нет противолежащего электрода. Геометрия электродов должна обеспечивать отсутствие краевых разрядов. [10]
Для металлических покрытий применяют медь, алюминий, никель, хром, серебро, золото, цинк и другие металлы и сплавы. В промышленности применяют следующие методы металлизации пластмасс: термическое испарение металлов в вакууме, катодное распыление металлов в вакууме, электролитическое осаждение металлов, пневмораспыление расплавленного металла. [11]
При этом следует учитывать, что поступление легко-летучих металлов в разряд определяется термическим испарением, а труднолетучих - катодным распылением. Различия в характере изменения интенсивности, по-видимому, объясняются тем, что термическое испарение легколетучих металлов при уменьшении давления газа в лампе возрастает быстрее, чем величина катодного распыления. Поэтому в первом случае относительное увеличение поступления металла в разряд превышает относительное увеличение диффузионных потерь, а во втором - наоборот: относительное возрастание диффузионных потерь, начиная с некоторого давления, превышает относительное увеличение поступления металла. Соответственно при понижении давления концентрация атомов легколетучих металлов в полом катоде возрастает, а труднолетучих-достигает некоторого максимума, после которого начинает убывать. [12]
Поэтому при уменьшении давления, при прочих равных условиях, должна уменьшаться и концентрация атомов внутри катода. С другой стороны, уменьшение давления ведет к увеличению энергии ионов, бомбардирующих катод, и, следовательно, к возрастанию температуры катода. Поэтому растет катодное распыление и термическое испарение металла. Таким образом, уменьшение давления ведет к уменьшению концентрации атомов металла в полом катоде из-за диффузионных потерь и к увеличению концентрации в результате возрастающего поступления металла в разряд. Результирующее изменение концентрации атомов внутри катода зависит от того, какой из указанных процессов оказывается сильнее. [13]
Страницы: 1