Тепловое испарение

Cтраница 1

Тепловое испарение проще и дешевле, поэтому в настоящее время применяется чаще. Поскольку процесс теплового испарения протекает в глубоком вакууме ( при давлении, меньшем 10 - 4 тор, т.е. примерно 0 136 - 10 - е кГ / см2), то необходимо применение весьма герметичной аппаратуры и высококачественных вакуум-насосов. Металл, служащий для металлизации, помещается на опорной спице из тугоплавкого металла ( вольфрама, тантала, молибдена) или в тигель ( фиг. В результате конденсации, на движущейся ленте образуется тонкий слой металла. [1]

Методом теплового испарения можно распылять многие металлы и их соединения ( окислы, сульфиды) и покрывать ими полимерные материалы. Адгезия слоя металлов ( или их соединений) с основой зависит в этом случае от чистоты поверхности, химического состава и температуры материала основы, а также величины вакуума. Для получения качественного покрытия поверхность основы следует предварительно отполировать или отлакировать. Часто лак наносят на полученное металлическое покрытие, что увеличивает его долговечность и улучшает вид. Сейчас во многих странах ведутся работы по усовершенствованию этого способа металлизации, в частности по получению долговечных покрытий и покрытий с большей адгезией. [2]

Толщину пленок, приготовленных путем теплового испарения или катодного распыления, вычисляют, исходя из допущения, что удельный нес металлической пленки равен удельному весу массивного металла. [3]

Пленка, обладающая чистой поверхностью, получается путем теплового испарения обезгаженного металла или соли. Как в первом, так и во втором случае образуется достаточно большая свежая поверхность, пригодная для изучения адсорбции или каталитических реакций. При этом следует помнить, что пленки, полученные таким образом, как показано в работе [106], имеют значительное остаточное напряжение, которое обычно снимается путем нагревания пленки до более высоких температур. [4]

Спектральная плотность шу ма для Ag при 390 К ( из работы, с любезного согласия Американского физического общества. [5]

Они провели исследования шума в тонких пленках из серебра и меди толщиной 100 - 1600 А, которые были получены с помощью теплового испарения на подложке из сапфира. Для гарантии того, что 1 / / - шум доминирует над тепловым шумом в изучаемом диапазоне частот 0 2 - 200 Гц, использовались токи с большой плотностью порядка 2 10б А / см2 и более. [6]

Трепнела [19], Томпкинса [35], Зурмана [36] и других авторов [37-39], имеет огромное значение для катализа, так как позволяет получить пленки с достаточно большой удельной поверхностью, что дает возможность использовать для изучения адсорбции и каталитических реакций обычные высоковакуумные установки. Пленка получается путем теплового испарения обезгаженного металла, который может иметь форму волокна или зерен, помещенного в лодочку из огнеупорного материала. Испаренный металл осаждается на стенках сосуда ( обычно стеклянного), внешнюю поверхность которого охлаждают. Но так как полученные таким образом пленки имеют значительные остаточные напряжения [40], то, прежде чем начать проводить на них изучение адсорбции, их необходимо стабилизировать повторным нагреванием до более высоких температур. [8]

При небольших токах катод мало разогревается и преобладает катодное распыление пробы и самого катода. По мере увеличения силы тока растет температура катода и заметную роль начинает играть тепловое испарение пробы. В случае особо тугоплавких материалов, таких, как титан, ванадий, цирконий, ниобий, тантал, может и при высоком токе основную роль играть катодное распыление пробы. [9]

Механизм образования положительных ионов на нагретой поверхности электрода, а также убывание термозмиссии ионов во времени состоит, вероятно, в испарении адсорбированных щелочных ионов. Для тренированного электрода эмиссия ионов определяется балансом между приходом адсорбируемых ( из глубины вещества и из окружающей газообразной фазы) на поверхность электрода атомов и их тепловым испарением. Установлено, что наложение электрического поля способствует увеличению эмиссии ионов с нагретой поверхности зонда-электрода, имеющего положительный потенциал. [10]

Механизм образования положительных ионов на нагретой поверхности электрода, а также убывание термоэмиссии ионов во времени состоит, вероятно, в испарении адсорбированных щелочных ионов. Для тренированного электрода эмиссия ионов определяется балансом между приходом адсорбируемых ( из глубины вещества и из окружающей газообразной фазы) на поверхность электрода атомов и их тепловым испарением. Установлено, что наложение электрического поля способствует увеличению эмиссии ионов с нагретой поверхности зонда-электрода, имеющего положительный потенциал. [11]

Схема взаимодействия луча лазера с халькогенидной пленкой при облучении через прозрачную подложку. На рисунке даны примерный профиль луча, сечение записанного пятна с пузырьком, а также примерное распределение интенсивности в луче лазера и температуры в сечении пленки вблизи пика мощности луча лазера. [12]

Файнлайб и др. [5.39] считают, что конкретный механизм образования записи ( пятен-пузырьков внутри пленки) в данном способе можно предположить следующим. В халькогенидных пленках температура превращения стекла ( при которой вязкость материала заметно уменьшается) всего на несколько десятков градусов выше температуры окружающей среды, а температура парообразования выше на несколько сотен градусов. Поэтому при мощном освещении экспонируемый материал быстро становится текучим и испаряется. Давление пара увеличивается по мере поглощения света ( энергии) до тех пор, пока не образуется пузырек с паром или же тепловое испарение приводит к образованию полости. При достаточно быстром охлаждении внутренность полости остается пустой. [13]

Вакуумная металлизация основана на осаждении молекул металла на поверхности металлизируемого предмета, находящегося в вакууме. Уже в 1890 г. Эдисон заметил затемнение парами вольфрама лампы накаливания. В 1930 г. был разработан первый вид вакуумного метода, так называемое катодное напыление металла, а совершенствование вакуумных насосов привело к разработке в 1936 г. второго вида, основанного на тепловом испарении металла. [14]

Напряжение горения Ь - это напряжение, необходимое для поддержания самостоятельного газового разряда после пробоя. Оно обычно меньше напряжения пробоя. Каждому типу разряда соответствует свое напряжение горения. Поддержание разряда1 происходит за счет образующихся в процессе разряда заряженных частиц - ионов и электронов. В первую очередь заряженные частицы образуются благодаря соударениям атомов с быстрыми электронами. Поставщиком электронов является и катод, из которого эмитируют электроны при холодной и термоэлектронной эмиссии. В результате теплового испарения и катодного распыления вещество электродов поступает в разрядное пространство. [15]

Страницы: 1