Электронный испаритель

Cтраница 1

Простейший электронный испаритель ( рис. 3 - 59 а) представляет собой металлический танталовый тигель /, являющийся анодом, в котором помещается испаряемое вещество. Вокруг тигля намотана вольфрамовая нить 2, являющаяся катодом. Над тиглем помещается кольцевой электрод 3 ( коллектор), находящийся под небольшим отрицательным потенциалом. [1]

При создании электронных испарителей важную роль играет материал и конструкция катода, так как они в основном определяют долговечность испарителя, стабильность теплового режима и отсутствие внесения загрязнений в процесе испарения. [2]

Другая конструкция электронного испарителя с поворотом луча на 180 показана на рис. 3 - 60 эж. В корпусе испарителя имеется сферическое углубление диаметром 15 мм и глубиной 3 мм, куда закладывается испаряемый материал, который бомбардируется сфокусированным электронным лучом. Мощность луча составляет 2 кет при пятне диаметром 3 мм. Во время испарения материал сохраняет сферическую форму вследствие сил натяжения. В данной конструкции катод заэкранирован от источника испарения, что увеличивает его срок службы. Весь испаритель смонтирован на двух водопод-водящих трубках и крепится на быстросъемном фланце. [3]

Схемы проволочных испарителей.| Схемы ленточных испарителей.| S. Тигельный испаритель для моноокиси кремния. [4]

Лучшими фокусирующими свойствами обладают автономные электронные испарители, в которых в качестве источника электронов используется электронная пушка, а фокусировка осуществляется постоянными магнитами или электромагнитами. [5]

На рис. 17 изображен электронный испаритель первого типа. [6]

На рис. 3 - 60 л представлен электронный испаритель, предназначенный для напыления кремния. Электронный прожектор испарителя состоит из четырех основных частей: верхнего и нижнего катодных колец, катода и анода. [7]

На рисунке показано, как можно использовать электронный испаритель в сочетании с микровесами. Испаритель смонтирован в трубке таким образом, что он образует пленку непосредственно на подкладке, подвешенной на нити. После опускания экрана при помощи внешнего магнита испаритель можно использовать для создания активной пленки в боковой трубке, не загрязняя при этом подкладки. Показанный на рисунке сосуд Дьюара предназначен для применения при адсорбционных исследованиях; его можно заменить печью соответствующей формы, как показано на рисунке пунктирными линиями. В микротигель загружается 100 мг вещества. Внутренний диаметр тигля равен 3 мм, но пучок частиц фактически вылетает через отверстие 0 1 мм в танталовой крышке, закрывающей микротигель. Эта крышка предотвращает разбрызгивание и одновременно способствует установлению термического равновесия между атомами перед их вылетом из тигля. До начала напыления загруженный металл расплавляется и обезгаживается непосредственно в самом приборе. При плавлении подкладка защищается управляемым снаружи экраном. Электроны, испускаемые раскаленной вольфрамовой проволокой толщиной 0 762 мм, ускоряются по направлению к тиглю под действием положительного потенциала. Экран из тантала, расположенный вокруг прибора, снижает тепловые потери, а танталовая крышка защищает подкладку от непосредственного воздействия обмотки. [8]

По третьему признаку установки классифицируются на установки термического испарения металлов в вакууме с помощью резистивных и электронных испарителей, установки катодного и ионно-плазменного распыления, а также установки для полимеризации в высокочастотном разряде. Обычно в одной установке реализуется несколько классификационных признаков. [9]

Установка УВН-2М-1 отличается от базовой конструкции внутрикамерными устройствами, которые имеют шесть позиций испарения, равномерно расположенные по окружности на базовой плите, на пяти из них установлены резистивные испарители, а на шестой - электронный испаритель. Три позиции с резистив-ными испарителями оборудованы устройствами для получения испарения в виде взрыва. Каждая из позиций испарения изолирована от других быстросъемными экранами. На расстоянии 300 мм от испарителей на подвижном диске установлено шесть масок, каждая против одной позиции испарения. Это позволяет производить смену масок и совмещать их с подложками, за счет чего на установке возможно нанесение шести-слойных схем за один вакуумный цикл. Над каруселью подложек имеется электронагреватель, обеспечивающий нагрев подложек до 400 С. Контроль толщины пленок в процессе испарения осуществляется резистивным или резонансно-частотным методом, для чего рядом с каждой подложкой на карусели подложек устанавливается резистивный преобразователь - контрольный образец, а на одной из позиций испарения - преобразователь кварцевого измерителя толщины КИТ-1. Кроме того, в установке предусмотрен контроль толщины пленки по времени осаждения с помощью реле времени. Средства контроля связаны с электромагнитной заслонкой, автоматически перекрывающей поток испаряемого материала при поступлении сигнала о получении заданной толщины. [10]

Установка УВН-2М-1 выполнена на основе базовой модели УВН-2М и предназначена для серийного производства многослойных пленочных микросхем и отработки технологического процесса их изготовления. Установка является высоковакуумной, многооперационной и позволяет наносить пленки методом термического испарения с помощью резистивных и электронных испарителей. [11]

Страницы: 1