Cтраница 3
В опыте второго типа при давлении остаточного газа в 10 - 9 мм давление водорода устанавливают равным 10 - 8 мм. Вольфрам прокаливают до 2400 К для его очистки, охлаждают до 300 К и выдерживают при этой температуре примерно 3 мин. Затем вольфрам прокаливают до 1000 К и происходящее при этом внезапное повышение давления регистрируют. После этого его снова выдерживают при 300 К в течение 3 мин. [31]
![]() |
Молекулярный куб, наложенный на обычную перегонную колбу с конденсатором.| Молекулярный куб с падающей пленкой. [32] |
Расчет скорости дистилляции в зависимости от давления остаточных газов может быть проведен на осяове уравнения Кармана. [33]
![]() |
Стабильность распределения интенсивности в масс-спектре нормального бутана. [34] |
Фоновое давление в масс-спектрометрической трубке обусловливается давлением остаточных газов вакуумной системы. [35]
Ситалловые подложки обрабатываются ионной бомбардировкой при давлении остаточного газа в камере 1 10 - 3 мм рт. ст. при напряжении 3 кВ в течение 5 - 10 мин. При более длительной обработке может произойти сопутствующее очистке осаждение алюминия. Кроме того, при неправильно выбранных материалах конструкции подколпачного устройства тлеющий разряд может стать источником загрязнений. [36]
При вакуумной обработке СВЧ приборов на постах давление остаточных газов в процессе обезгаживания и активирования катода не превышает 5 - 10 - 6 мм рт. ст. ( за счет высокой скорости откачки), поэтому для разложения карбонатов и удаления углерода достаточна гораздо более низкая температура 780 С. [37]
В зависимости от температуры в конденсаторе и давления остаточного газа в реакторе магний может получаться или в жидком, или в твердом состоянии. Давление пара магния при его температуре плавления ( 650) равно примерно 2 5 мм. [38]
Кроме того, в условиях, когда давление остаточных газов в рабочей камере равно 10 4 - 10 - 5 Па и выше, невозможно избавиться от наличия адсорбционных слоев на поверхностях твердых тел. [39]
![]() |
Прпбор для воз-гопкп магния. [40] |
В зависимости от температуры в конденсаторе и давления остаточного газа в реакторе магнпп может получаться или в жидком, илп в твердом состоянии. Давление пара магния прл температуре его плавления ( 650 С) равно примерно 2 5 ммрт. [41]
Изменения в значениях скоростей испарения в диапазоне давлений остаточных газов ( 10 - 7 - 10 - 9) тор в условиях эксперимента очень малы. [42]
Катан [19] исследовал несколько порошковых материалов при давлении остаточного газа от 10 - 3 до 760 мм рт. ст., но не указал степень черноты поверхности и не рассматривал вопроса о тепловом излучении через порошки. [43]
Поэтому приборы, имеющие одно и то же давление остаточных газов, но разные габариты, имеют различную степень вакуума и характеризуются различным поведением газа. [44]
Процесс выпуска должен происходить таким образом, чтобы давление рт остаточных газов в конце выпуска и затрата работы на осуществление этого процесса были минимальными. [45]