Движение - столик
Cтраница 1
Движение столика со спектрограммой на микрофотометре МФ-4 и диаграммной ленты на потенциометре осуществляется синхронными моторами. [1]
Для движения столика выбираем эксцентриковый механизм с вертикально двигающейся штангой. [2]
Механизм движения столика состоит из столика для картограммы, возвратной пружины и масштабных роликов. [3]
Точно такие же движения столика следует произвести и при измерении цилиндрических отверстий. [4]
Винтами 4 осуществляется движение столика в горизонтальной плоскости. [5]
Пусть изучение процесса движения столика позволяет установить периоды движения и на этом основании составляется цикловая диаграмма ( фиг. [6]
Направляющие на иголках микрометрического движения столика микроскопа: 1 - сферический подпятник; г - иголки. [7]
Регистратор динамографа состоит из самопишущего манометра и механизма движения столика, смонтированных на общей плите. [8]
 |
Прибор для испытания устойчивости окраски к трений. [9] |
Трение мит-каля о поверхность испытуемого окрашенного образца производят путем движения столика рукояткой / на расстоянии 10 см, по десять раз в одном и обратном направлении. Общее давление пробки на столик равно 1 кг. [10]
Перемещение этого изображения синхронно с электрофотографическим слоем обеспечивается за счет движения столика влево. [11]
Как видно, кинематическая схема стенда вызывает искажение гармонического закона движения столиков. При максимальной амплитуде это искажение не превышает 3 / о и уменьшается с уменьшением амплитуды. [12]
Регистратор состоит из двух основных узлов: много-витковой манометрической пружины с пером и механизма движения столика с диаграммным бланком, на котором записываются изменения усилий в полированном штоке в заданном масштабе. [13]
Новые особенности в лазерной технологии при изготовлении канала сопел и насадок состоят в компьютерном управлении параметрами лазерного луча и движением трехкоординатного столика с заготовкой. Эта технология позволяет в 2 - 3 раза сократить машинное время обработки канала, получать сопла со сложной конфигурацией отверстия, улучшить параметры шероховатости внутренней поверхности канала после лазерной обработки до Ri 2 5 - 0 63, уменьшить разбег лазерного луча ( толщина реза) до 0 1 мм на глубине 3 мм. [14]
Общее время экспонирования определяется минимальным экспонируемым элементом ( чем он меньше, тем больше время), временем сканирования луча или временем экспонирования одного поля, временем движения столика, временем шагового перемещения столика, а в случае векторного сканирования - временем установления луча на следующем по очереди поле экспонирования и, кроме того, временем на совмещение. В установке фирмы Перкин - Элмер модели AEBLE 150, которая, как считается в настоящее время, обладает самыми большими возможностями, время экспонирования подложки диаметром 100 мм с 30 % - ной площадью экспонирования составляет 353 с. При этом на рисунке плотностью 106 см-2 1 / 6 часть элементов имеет размер 0 5 мкм, 1 / 3 часть - размер 1 мкм и еще 1 / 2 часть - размер 2 мкм. [15]
Страницы: 1 2 3