Cтраница 1
Действие травителя зависит от природы реактива и средств разбавления. Концентрация воды в травителе оказывает большое влияние на его диссоциацию. [1]
Под действием травителей на поверхности определенных фаз образуются окрашенные пленки. В зависимости от условий травления пленки могут быть различных составов, разной толщины и оттенков. [2]
Истинный механизм действия травителя, благодаря которому он либо равномерно снимает материал, либо воздействует преимущественно на дислокации, остается в большинстве случаев неясным. Однако ряд травителей простого химического состава изучен довольно обстоятельно и механизм их действия хорошо раскрыт. Такие исследования дают веские основания полагать, что механизм действия по крайней мере некоторых химически более сложных травителей одинаков. Так, Гилман и др. [52], а также Сире [53], изучавшие механизм травления кристаллов LiF водным раствором FeFs, обнаружили, что срыв атомов с поверхности начинается в местах выхода дислокаций на поверхность. Это объясняется тем, что из-за упругой деформации и деформации в ядре дислокации атомы здесь слабее связаны друг с другом. Роль фторида железа заключается в преимущественном подавлении перемещения ступеней по поверхности сравнительно с возникновением новых ступеней у дислокации. Отсюда растворение в ямках перпендикулярно поверхности кристалла идет быстрее растворения параллельно этой поверхности. Когда же ионов Fe3 ( или ионов А13, аналогично действующих) нет, ямки травления не возникают. При молярной же концентрации Fe3, меньшей примерно 10 - 7, ямки травления имеют незначительную глубину. Таким образом, травитель во многих случаях содержит примеси, роль которых заключается в преимущественной адсорбции или хемосорбции на изломах ступени. В табл. 1.1 дан неполный перечень травителей, применяющихся для изучения совершенства кристаллов. [3]
Большинство полупроводниковых материалов не изменяется под действием неокисляющих травителей. В состав травителей обычно включаются: 1) растворитель - среда для образования гомогенного травителя; 2) окислители, которые должны образовать окислы или другие продукты окисления на поверхности полупроводника ( повысить степень окисления); 3) комплексообразователи, которые должны растворить образовавшийся продукт окисления, удалить его с поверхности; 4) ускорители или замедлители первых двух реакций, если последние протекают с такой скоростью, что ими трудно управлять; 5) специальные добавки, обусловливающие селективность действия травителя. [4]
![]() |
Скорость травления окисла кремния.| Зависимость профиля элементов от температуры травителя. [5] |
Как уже отмечалось, если химический состав и физические свойства пленок однородны, то действие травителей должно быть изотропным. [6]
Лоскевич [31 ] предложил добавлять в раствор вместо бензойной кислоты 5 г РЬО; при этом действие травителя не изменилось. [7]
Таким образом, первый метод дает хорошие результаты при изготовлении структур преобразователей с шириной электродов до 3 - 5 мкм, а второй незаменим при изготовлении структур с меньшей шириной электродов ( до 1 мкм) и в том случае, когда поверхность материала звукопровода чувствительна к действию травителей, например германата висмута. [8]
![]() |
Возникновение источника Франка-Рида. [9] |
В последнем случае применяют травители, например травитель Дэша, состоящий для кремния из 12 в. Под действием травителей выходы дислокаций проявляются в виде ямок ( рис. VIII. [10]
Для выявления аустенита и феррита применяют Травитель 107 а. При этом действие травителя зависит от концентрации травителя, от соотношения хрома в феррите и аустените и от количественного соотношения обеих фаз. Контрастную картину дает травление раствором 1076, причем феррит проявляется как светлая, а аустенит - как темная составляющая; а-фаза становится видимой при травлении раствором 107а, однако контрастность повышается только после термического травления. Аустенит окрашивается в коричневый цвет, о-фаза выглядит светлой. Раствором 107в она окрашивается в различные тона и на черно-белом фоне выглядит темнее, чем аустенит. [11]
В ФРГ разработан ряд фоторезистов на основе таких полимеров, как модифицированный поливиниловый спирт, полиакриловые эфиры и некоторые типы каучу-ков, в том числе фотолак Копирекс. Они устойчивы к действию кислотно-щелочных травителей и имеют разрешающую способность более 100 лин / мм. [12]
Преимуществами позитивных фоторезистов по сравнению с негативными являются высокая разрешающая способность, обусловленная слабым влиянием побочных явлений в фотослое при экспонировании ( дифракции и отражения света от подложки), высокая контрастность ( резкая зависимость глубины проработки слоя от времени выдержки), более длинноволновая граница спектральной чувствительности, позволяющая использовать стеклянные фотошаблоны вместо кварцевых без заметного поглощения. Однако позитивные фоторезисты плохо выдерживают действие щелочных травителей. [13]
Такое покрытие употребляют нечасто из-за миграции и обесцвечивания серебра. Образцы были исследованы для сравнения действия травителей. [15]