Cтраница 2
При использовании внутренней стабилизации по ТМС область, близкая к нулю шкалы, обычно не регистрируется из-за биений основной и контрольной частот. В этом случае нуль шкалы устанавливается по значениям меток частоты. [16]
В некоторых существующих спутниках, стабилизированных вращением, магнитные моменты используются для изменения ориентации. Это осуществляется при помощи катушки с проводом, намотанным по периметру спутника в плоскости, перпендикулярной оси вращения. Цепь выполняется так, чтобы в нужный момент по катушке мог быть пропущен ток необходимой величины и полярности. Это устройство обеспечивает хорошее управление положением оси и значительно расширяет ьозможности использования стабилизации вращением. [17]
Таким образом, в спектрометре фактически воспринимаются два сигнала ЯМР: один из них ( контрольный) сначала находят вручную, затем повисают на нем и сразу включают систему стабилизации. После этого переходят в канал наблюдения и регистрируют изучаемый спектр. Очевидно, что сигналы контроля и наблюдения должны быть разными. Это требование выполняется одним из двух способов. Во-первых, контрольный сигнал может происходить от образца, непосредственно встроенного в датчик. Такая система называется двухобразцовой ( второй образец - сменный, содержит изучаемый раствор), а тип контроля - внешним. Такая система называется однообразцовой, а тип контроля - внутренним. Разумеется, при использовании однообразцовой стабилизации приходится каждый раз три смене образца производить заново включение контроля. [18]
Схемы СВЧ плазмотронов с предполагаемыми картинами течений при прямо-точно-вихревой и возвратно-вихревой стабилизации плазмы показаны на рис. 7.30, а на рис. 7.31 показана зависимость мощности плазменного СВЧ излучения Wp, поглощаемого разрядом, и тепловой мощности Wt, выделяющейся в контуре охлаждения плазмотрона. Результаты опытов приведены в виде зависимости доли тепловых потерь WJWV от удельного вклада энергии в разряд J WIG, где G - расход плазмообразующего газа - азота. Результаты численного моделирования показаны на рис. 7.32 а - для традиционной прямоточно вихревой стабилизации и на рис. 7.32 5 - для случая с возвратно-вихревой стабилизацией. В первом случае рабочее тело - плазмообразующий газ - азот в виде закрученного потока подается в разрядную камеру, а во втором случае он подается в дополнительную вихревую камеру со скоростями 100 м / с ( С 1 г / с) и 225 м / с ( G 1 5 г / с), соответственно. По мнению автора работы [64] возвратный вихрь сжимает зону нагрева, предохраняя стенки камеры плазмотрона от перегрева. Основная часть газа проходит через разрядную зону, а размер зоны рециркуляции незначителен. В традиционной схеме ( см. рис. 7.32 а) входящий газ смешивается с циркулирующим потоком плазмы и основная часть газа проходит мимо разряда вдоль стенок кварцевой трубки. Судя по приведенным модельным расчетам, схема с возвратно-вихревой стабилизацией позволяет снизить максимально достижимую температуру нагрева корпусных элементов примерно в 2 5 раза. Наиболее нагретая часть область диафрагмы, непосредственно примыкающая к отверстию имеет температуру 1400 К. Таким образом, использование возвратно-вихревой стабилизации плазмы позволяет изготовить СВЧ плазмотрон неохлаждаемым из кварцевого стекла. [19]