Cтраница 2
![]() |
Крепление светильника на крышке промышленного реактора для фотонитрозирования циклогексана и люк для наблюдения за работой светильника. [16] |
В качестве источников излучения применяют в зависимости от требуемых длин волн лампы ртутные, накаливания или люминесцентные. Эффективность источника излучения определяется главным образом спектральным составом излучения и общей мощностью источника. [17]
Вращая рукоятку в сторону увеличения длин волн, устанавливают требуемую длину волны. Если при этом шкала повернется на большую величину, то возвращают ее назад на 3 - 5 нм и снова подводят на требуемое деление. [18]
Зная кривую прозрачности окрашенного раствора, можно точно выбрать требуемую длину волны света или максимума прозрачности светофильтра. При отсутствии данных о характере кривой пропускания можно ограничиться выбором светофильтра, цвет которого наиболее близко соответствует дополнительному к цвету раствора. [19]
Тонкая пластинка полупроводникового материала локально освещается монохроматическим светом с требуемой длиной волны. Плоскополяризованное излучение для освещения сбразца выделяется с помощью поляризатора, помещенного между источником света и образцом. В качестве поляризатора применяют призму Ни-коля. Угол Фарадея прошедшего сквозь пластину излучения измеряют также с помощью призмы Николя, поворачивая ее таким образом, чтобы фотоприемник фиксировал максимальный сигнал. В этом случае призма Николя служит анализатором. Последователь-ло смещая образец на расстояния, соответствующие поперечным размерам светового зонда, можно получить картину распределения свободных носителей заряда в образце. [20]
Проблема разрешающей способности, которая сводится к вопросу о выделении требуемой длины волны, часто представляет собой задачу о подавлении мешающего фона вблизи нужной длины волны. [21]
Какие бы ни принимались меры предосторожности, всегда вместе с излучением требуемой длины волны проходят небольшие количества излучений других длин волн. [22]
Какие бы ни принимались меры предосторожности, всегда вместе с излучением требуемой длины волны проходят небольшие количества излучений других длин волн. Интенсивность этих паразитных излучений обычно ничтожна по сравнению с интенсивностью всего света, падающего на фотоэлектрический элемент. Но когда измеряют большие оптические плотности, в особенности, если эти измерения проводят при длинах волн света, в отношении которых фотоэлемент мало чувствителен, то с паразитным излучением приходится считаться. Закон Бе-ра тогда не соблюдается и оптические плотности перестают быть аддитивными. Имеется предел, когда измерения становится невозможными в большинстве известных приборов. [23]
Для получения фильтрованного ультрафиолетового излучения в приборе применяются светофильтры в зависимости от требуемой длины волны возбуждающего света. Длинноволновая часть ультрафиолетового излучения выделяется светофильтром УФС-3. Если для возбуждения люминесценции необходим более коротковолновый свет, то применяется стеклянный светофильтр УФС-1. Светофильтры помещаются перед патрубком оптической камеры. [24]
![]() |
Прибор для контроля масла в сжатых газах ( пат. 3176623 США, 1965. [25] |
Снаружи камеры высокого давления расположены источник ультрафиолетового излучения, фильтр, пропускающий излучение требуемой длины волны, и конденсорная линза. Внутри камеры под углом 45 к направлению потока возбуждения от источника ультрафиолетового излучения, а также к потоку газа, от штуцера подвода газа установлена контрольная пластина, покрытая неотражающим слоем, например черным матовым лаком. Оптико-электронный контроль полости высокого давления в камере обеспечивается использованием смотровых остекленных устройств. Для приема излучения, возбуждаемого на поверхности контрольной пластины, установлен фотоприемник-фотоумножитель. [26]
Свет от источника ультрафиолетового излучения ( или от какого-либо другого, в зависимости от требуемой длины волны возбуждающего света) проходит через светофильтр и, отражаясь от зеркала, попадает на кювету с исследуемым веществом, вызывая люминесценцию. [27]
Ручка 2 ( см. рис. 10) служит для поворота ди-фракиионной решетки через синусный механизм и установки требуемой длины волны в нанометрах. [28]
Последний метод прекрасно подходит как источник рентгеновского излучения, используемый в рентгенолитографии, поскольку позволяет формировать рентгеновское излучение очень высокой плотности с требуемой длиной волны и параллельными лучами. Для рентгенолитографии важной технической задачей является разработка фотошаблонов, поскольку их рисунок изготавливается из пленок тяжелых металлов, а основой служит подложка, слабо поглощающая рентгеновское излучение. [29]
Закрепляют кювету прижимом и закрывают крышку кюветного отделения; 2) рукояткой 10 устанавливают в рабочее положение сурьмяно-цезиевый - Ф или кислородно-цезиевый - К фотоэлемент; 3) устанавливают переключатель 18 в положение выкл и закрывают фотоэлемент, поставив шторку 22 в положение закр; 4) ручкой 20 устанавливают по шкале 2 требуемую длину волны, подводя ее со стороны малых значений. Если же проводят измерения узкополосных максимумов при узкой щели, то рукоятку 16 оставляют в положении 4; 7) компенсируют темновой ток рукоятками 9 и 15 регулировки, подводят стрелку миллиамперметра 4 к нулю. [30]