Количество - структурная вода
Cтраница 1
Количество структурной воды ( в виде ОН-групп) при старении одних гидроокисей не изменяется, а других - изменяется различно. Для алюминия оно увеличивается в связи с переходом бемита Y - A1OOH через метастабильную модификацию байерита а - А1 ( ОН) 3 в гидраргиллит у - А1 ( ОН) 3, а для железа ( III), меди ( II) и цинка, наоборот, уменьшается вследствие дегидратации a - FeOOH, Cu ( OH) 2 и e - Zn ( OH) 2 до соответствующих окислов. [1]
Количество структурной воды на поверхности силикагеля во второй ячейке определяют по формуле (17.7): пН2о 1 13 - 0 750 0 848 ммоль. [2]
Количество структурной воды ( в виде ОН-групп) при старении одних гидроокисей не изменяется, а других - изменяется различно. Для алюминия оно увеличивается в связи с переходом бемита y - AlOOH через метастабильную модификацию байерита а - А1 ( ОН) 3 в гидраргиллит у - А ( ОН) 3, а Для железа ( III), меди ( II) и цинка, наоборот, уменьшается вследствие дегидратации a - FeOOH, Cu ( OH) 2 и e - Zn ( OH) 2 до соответствующих окислов. [3]
 |
Величины удельной поверхности окиси алюминия в зависимости от температуры ее прокаливания. [4] |
Поскольку количество структурной воды в образце может характеризовать состояние поверхности, а следовательно, и ее адсорбционные свойства, представляло интерес получить непосредственную зависимость между содержанием структурной воды и теплотой смачивания поверхности алюмогеля. [5]
Таким образом, отнесение всего количества структурной воды к единице поверхности для образцов, обработанных при температурах до 200 С, является условные. [7]
При старении в некоторых гидроокисях количество структурной воды изменяется различно. Так, в осадках гидроокиси алюминия оно увеличивается в связи с переходом бемита через метаста-бильную модификацию ( байерит) в гидраргиллит, а в осадках гидроокисей меди ( II) и цинка, наоборот, уменьшается из-за дегидратации их до соответствующих окислов. [8]
 |
Исследованные образцы морденитов. [9] |
Изучение обратимости адсорбционных равновесий на морденитах показало, что в адсорбционной области изотермы адсорбции, определенные на дегидратированных при 350 С образцах, располагались заметно выше изотерм десорбции, что свидетельствовало об удалении при дегидратации не только адсорбированной воды, но и некоторого количества структурной воды, которое восстанавливалось при высоких относительных давлениях. [10]
 |
Кривые потери веса исходного ( 1, декатионированного ( 2 и деалюминированного ( 3 эрионита ( во всех случаях потери отнесены к 1 г цеолита, не содержащего адсорбированной воды. [11] |
При расчете количества структурной воды принималось во внимание, что в местах декатионирования образуется одна группа ОН, а в местах деалюминмрования - четыре. Как видно из табл. 32, расчетные и экспериментально найденные содержания воды в кристаллах достаточно хорошо согласуются. [12]
Из сопоставления кривых 2 и 3 на рис. 1.40 следует также, что выделение структурной воды из деалюминированного образца ( при ее общем содержании 68 1 мг / г) должно начаться уже при температуре около 125 С, т.е. при температуре значительно более низкой, чем это допускается в работах [ 171, 176 - 178J для деалюминиро-ванных цеолитов. Из рис. 1.40 видно также, что количество структурной воды, выделяющейся в интервале 125 - 450 С, близко к расчетному содержанию гидроксилов в кластерах ( ОН) 4, образующихся при деалюми-нировании, и, следовательно, выделение структурной воды из гидроксилов этих кластеров предшествует выделению воды из одиночных и разобщенных гидроксилов де-катионирования. [13]
Вирзинг [ 216а б ] нашел, что сложные полосы в близкой инфракрасной области особенно пригодны для идентификации силанольных групп и воды. Количество структурной воды в силикагеле и аэросиле было определено построением зависимости интенсивности от потери веса при 1100 для образцов с различным содержанием воды и экстраполированием этой зависимости к нулевой интенсивности. [14]
Представляло интерес выяснить, насколько полно удаляется вода в ходе ТПД. Для этого после съемки кривой 2 ( см. рисунок) до 800 С и последующего охлаждения в установке в потоке сухого газа-носителя была проведена повторная ТПД. При этом в исследуемом температурном интервале не происходило выделения каких-либо продуктов в газовую фазу. Следовательно, уже в режиме непрерывного повышения температуры происходит количественное удаление воды. При дублировании опытов для образцов, не подвергавшихся ранее нагреванию выше 150 С, наблюдалась высокая воспроизводимость спектра ТПД. Эти результаты свидетельствуют о том, что метод ТПД может быть применен для определения количества структурной воды, находящейся на поверхности силикагеля и удаляющейся с нее в температурном интервале от 350 до 700 - 800 С. [15]
Страницы: 1