Cтраница 3
Непрерывность этих компонент поля на границе сердцевины и оболочки ( р а) приводит к характеристическому уравнению, решение которого определяет постоянную распространения Р для моды световода. [31]
Каждая из компонент поля Ех, Еу, Ez удовлетворяет уравнению Лапласа, так что А. [32]
Поэтому обе компоненты поля Ех и Ег должны быть равны нулю. [33]
Так как компоненты поля электромагнитной волны Е и Н удовлетворяют системе уравнений Максвелла, то только две компоненты ( из шести) этих векторов оказываются независимыми. [34]
При этом компонента поля В0 ( х) должна быть выражена через В ( х) при помощи некоторого дополнительного условия. [35]
Ет - компонента поля синхронной гармоники, действующая на заряж. [36]
Условия непрерывности тангенциальных компонент поля на поверхности раздела двух диэлектриков (2.1) и соответствующие условия (4.9) в скалярной задаче, как мы уже отмечали, гарантируют отсутствие на этой поверхности скрытых сторонних токов. Тем самым создается возможность и поверхностные токи задавать не явным образом, а в виде значений скачка тангенциальных компонент Е или Н ( или Е и Н) на какой-либо поверхности. Эта поверхность может и не быть поверхностью разрыва свойств среды. [37]
![]() |
Вектор фазовой скорости.| Векторное поле. [38] |
Заметим, что компоненты поля в особой точке не имеют особенностей: они непрерывно дифференцируемы. Название особая точка объясняется тем, что вблизи такой точки направление векторов поля меняется, вообще говоря. [39]
В декартовых координатах компоненты поля, параллельные осям хл. [40]
Учет z - компонент поля и скорости проводится точно так же. [41]
![]() |
Схема распространения пространственного луча. [42] |
Нас интересует вертикальная компонента поля в точке приема, которая, как следует из рисунка, будет суммой вертикальных компонент падающей и отраженной волн. [43]
Полученная z - компонента поля аппликации использовалась для вычисления энергии взаимодействия между ЦМД и аппликацией, а также обобщенной силы, действующей на ЦМД. [44]
Первое слагаемое выражает компоненту поля, которую необходимо приложить, чтобы произвести работу по созданию переходного слоя; HQ - критическое поле, необходимое для преодоления потенциальных барьеров на пути перемещения и роста переходного слоя. [45]