Cтраница 2
Дальнейшее концентрирование этилена усложняет цикличность работы адсорберов и требует больших емкостей для хранения газа. Максимально достижимая концентрация этилена не превышает 55 - 66 %, причем этиленовую фракцию приходится пропускать через уголь два-три раза, что значительно тормозит работу. [16]
Гидрофобные коллоиды, частицы которых по своим размерам намного больше обычных молекул, очень неустойчивы. Поэтому максимально достижимая концентрация частиц в таких коллоидах сравнительно невелика. Например, в золях золота значение с не может быть выше чем 1016 частиц в 1 см3 раствора, что при комнатной температуре ( kT 4 - 10 - 14 эрг), согласно уравнению (3.6), соответствует Р 40 дин / см2, или 4 - 10 - 5 атм. [17]
Клиническая картина отравления реагентом ХТ-48 аналогична описанной при воздействии ингибиторов солеотложения. Ингаляционное воздействие на уровне максимально достижимых концентраций выявило признаки раздражения органов дыхания и заторможенность, гибели животных не зафиксировано. [18]
Основными преимуществами ионной имплантации, если сравнивать ее с другими методами, основанными на легировании поверхности [80], являются: возможность получения практически любой комбинации матрица-легирующий компонент, в том числе сплавов элементов, несмешиваемых в твердом и жидком состоянии и весьма далеких от термодинамического равновесия; отсутствие проблемы адгезии, характерной при нанесении покрытий: практически неизменность размеров обрабатываемой поверхности; исключительная чистота процесса; введение строго контролируемого количества легирующей примеси; возможность осуществления процесса при любых, в том числе комнатных и отрицательных, температурах. К недостаткам следует отнести такие: глубина проникновения имплантируемых ионов не превышает, как правило, десятые доли микрометра; максимально достижимая концентрация легирующей примеси ограничена распылением поверхности ( не более 10 - 20 %); затруднительность обработки затененных участков поверхности; относительная сложность и высокая стоимость оборудования. [19]
Основными преимуществами ионной имплантации, если сравнивать ее с другими методами, основанными на легировании поверхности [80], являются: возможность получения практически любой комбинации матрица-легирующий компонент, в том числе сплавов элементов, несмешиваемых в твердом и жидком состоянии и весьма далеких от термодинамического равновесия; отсутствие проблемы адгезии, характерной при нанесении покрытий; практически неизменность размеров обрабатываемой поверхности; исключительная чистота процесса; введение строго контролируемого количества легирующей примеси; возможность осуществления процесса при любых, в том числе комнатных и отрицательных, температурах. К недостаткам следует отнести такие: глубина проникновения имплантируемых ионов не превышает, как правило, десятые доли микрометра; максимально достижимая концентрация легирующей примеси ограничена распылением поверхности ( не более 10 - 20 %); затруднительность обработки затененных участков поверхности; относительная сложность и высокая стоимость оборудования. [20]
При введении значительных доз в желудок у белых мышей и крыс развивается вялость, шаткая походка, клонические судороги, легкий наркоз. Вдыхание паров в максимально достижимой концентрации признаков отравления не вызывало, не обнаружено и антихолинэстеразное или нейронаралитическое действие. [21]
Поскольку растворимость газов зависит от температуры растворителя, то равновесную линию для этого аппарата установить невозможно, пока не изестна температура растворителя для каждого значения его концентрации. Когда очень разбавленный газ контактирует с большим количеством растворителя, тепловые эффекты, сопровождающие процесс растворения, могут быть столь малыми по сравнению с физическим теплосодержанием жидкости, что колонна будет работать практически в изотермических условиях. В действительности, однако, существует много примеров, когда происходит значительное повышение температуры растворителя. К ним относятся: осушка воздуха путем контактирования с концентрированной серной кислотой, абсорбция в ней серного ангидрида, растворение хлористого водорода в воде при получении концентрированной соляной кислоты. В последнем случае количество тепла, выделяющегося при растворении кислоты, столь велико, что его отвод становится лимитирующим фактором при определении максимально достижимой концентрации кислоты. На практике абсорбцию соляной кислоты часто осуществляют без охлаждения, так что жидкость может при этом кипеть. [22]
В большинстве практически важных случаев ионного легирования машиностроительных материалов необходимо достижение концентрации легирующей примеси в единицы и десятки процентов. Соответствующие дозы легирования должны составлять 1016 - 1018 ионов на 1 см2 облучаемой поверхности. Для сравнения отметим, что при легировании полупроводниковых материалов достаточны дозы, меньшие на два-три порядка. При высоких концентрациях легирующей примеси становится существенным распыление поверхности мишени налетающими ионами. В предельном случае распыление поверхности определяет максимально достижимую концентрацию ионов и приводит к трансформации профиля их распределения от гауссова к платообразному с максимумом концентрации на поверхности. Для количественного описания процесса вводится коэффициент распыления, определяющий число атомов мишени, выбиваемых одним падающим ионом. [23]
Однако не следует преувеличивать значимость этих недостатков. Так как площадь фактического контакта при трении твердых тел составляет, как правило, 10 - 3 - 10 номинальной, в каждый данный момент времени в контакте находится незначительное количество самых высоких микронеровностей и влияние ионного легирования проявляется на глубине, превышающей толщину шероховатого слоя. Следовательно, ионно-лучевое модифицирование может существенным образом влиять на процессы деформации и разрушения поверхностных слоев, в особенности при мягких режимах взаимодействия. Что касается ограничений по концентрации легируемой примеси, то можно отметить, что в ряде случаев для заметного роста износостойкости оказывалось достаточно незначительного изменения химического состава поверхностного слоя. При необходимости достижения высоких концентраций имплантируемых элементов, превышающих дозу насыщения ( максимально достижимую концентрацию легирующей примеси, ограниченную распылением поверхности), может использоваться ионное перемешивание, когда легирование осуществляется за счет внедрения атомов предварительно нанесенной на поверхность пленки, а не потока бомбардируемых ионов. [24]