Cтраница 2
Толщина переходного слоя / при этом составляет 2 мкм. Переход - / ный слой, вероятно, является областью / повышенной концентрации дефектов. [16]
Внешний всплеск натрия связан с посторонним источником загрязнения натрием системы Si - SiO2 ( кварцевые стенки печи и др.), тогда как внутренний пик может быть обусловлен способностью границы раздела Si - SiO2 концентрировать примеси различного рода. Концентрирование здесь натрия вызвано существованием на границе раздела достаточно хорошо выраженной потенциальной ямы и повышенной концентрацией дефектов, склонных, как известно, декорировать примеси различного рода. Методом МСВИ были исследованы термические слои SiO2 различного типа [ 588, 125, 124, 4811 и, для сравнения, кварц и различные стекла. В этом случае, кроме натрия, найдено большое количество других примесей ( кобальта, никеля, магния, хлора, марганца, аргона), которые, однако, в основном вводились из держателя и остаточной атмосферы. Особенностью напыленных окислов было то, что в них натрий располагался однородно по толщине без концентрации на границах. Это значит, что процесс концентрации является активационным и происходит при достаточно высоких температурах. [17]
Интерпретация результатов, полученных в рамках одномерной модели, может быть проведена по аналогии с [16], где полагалось, что поведение плоскостей в кристалле подобно частицам одномерной цепочки. Поэтому результаты, полученные при исследовании структурно-неоднородных моделей, могут быть использованы для анализа особенностей, обусловленных нелинейными эффектами распространения фронта ударной волны через включения из примесных атомов либо через области с повышенной концентрацией дефектов, в частности через границы зерен. [18]
Особую роль в стимулировании твердофазных реакций играют полиморфные превращения любой из фаз. Как правило, химическая реакция начинается и интенсивно проходит при температуре полиморфного превращения. Это связано с повышенной концентрацией дефектов кристаллической структуры непосредственно после такого превращения и с тем фактом, что в момент переориентировки частицы обладают особенно большой подвижностью и реакционной способностью. [19]
Для ряда образцов было зафиксировано образование питтингов на поверхностях трения. Характер процессов, протекающих в контакте в динамических условиях, и механизм образования питтингов может быть различным. Как известно, реальная поверхность металла характеризуется повышенной концентрацией дефектов строения - вакансий, дислокаций и т.п. При интенсивном деформировании поверхностных слоев металла при трении дефекты служат концентраторами напряжений и являются очагами зарождения микротрещин. В результате многократного циклического деформирования происходит развитие микротрещин, их смыкание, отслаивание частиц износа и образование питтингов вследствие контактной или фрикционной усталости металла. Большую роль при этом играет, как указывалось выше, адсорбционное понижение прочности поверхностных слоев металла вследствие эффекта Ребиндера, химическая коррозия, вызываемая серосодержащими лрисадками, а также электрохимическая питтинговая коррозия, возникающая в местах скопления поверхностных дефектов в результате пробоя пассивирующей поверхности пленки окисла. [20]
Благоприятные условия для развития зародышей вторичной рекристаллизации возникают и в текстурованных материалах. Наличие небольшого числа зерен с другой ориентацией кристаллической решетки является достаточным условием для ускоренной миграции их границ. В определенной степени аналогичный случай возникает в изотропном материале, содержащем некоторое число зерен с особыми границами, обладающими более высокой подвижностью. Возможно образование зародышей и в результате роста зерна, свободного от дефектов, за счет соседей, имеющих существенно большую энергию, обусловленную повышенной концентрацией термически устойчивых дефектов кристаллической решетки. [21]
Кристаллы порошков обладают большим количеством дефектов. В начале выдержки при спекании эти дефекты в определенной своей части ( в зависимости от темп-ры) снимаются, создавая при этом повышенную концентрацию вакансий, что способствует ускоренной диффузии атомов и вследствие этого быстрой усадке. Затем, с удлинением выдержки, концентрация вакансий уменьшается, приближаясь к равновесной для данной темп-ры, коэфф. С уменьшением свободной поверхности уменьшаются и силы поверхностного натяжения - движущей силы усадки. Если при спекании происходит рекристаллизация с сильным ростом зерен, то определенная часть оставшихся изолированных пор оказывается внутри кристаллов, не пересекаясь с межкристаллич. Врике-гы из мелких порошков с высокой удельной поверх-юстью и повышенной концентрацией дефектов пока-швают при спекании большую и более быструю усад-чу, чем крупнозернистые порошки; предварительный зтжиг порошков или медленный подъем темп-ры при шеканин снимает часть дефектов и поэтому усадка здет медленнее и не так далеко. Но это справедливо только для чистых порошков. [22]