Высокая концентрация - носитель - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Молоко вдвойне смешней, если после огурцов. Законы Мерфи (еще...)

Высокая концентрация - носитель

Cтраница 2


Анализ температурных зависимостей электрических параметров халькоцита Cu2S свидетельствует о высокой концентрации носителей и дефектов. Вследствие этого получить Ct S стехиометрического состава практически невозможно. Действительно, из-за очень низкого потенциала электрохимического разложения происходит самопроизвольное превращение Cu2S в другие модификации с нарушенной стехиометрией. В значениях концентрации носителей, опубликованных различными авторами, существует большой разброс.  [16]

17 Изменение ширины запрещенной.| Диаграмма состояния системы PbSe - SnSe.| Зависимость периода решетки твердых растворов РЬ ] ж5п 8е от состава.| Зависимость концентрации носи. [17]

Для монокристаллов Pb r SrizSe-в области составов 0 0 3 характерна высокая концентрация носителей заряда. Высокая концентрация дырок обусловлена наличием ионизированных собственных дефектов, связанных с отклонением состава от стехиометрического. Изотермический отжиг позволяет контролировать это отклонение.  [18]

В очень тонких пленках ( менее 0 1 мкм) и при высоких концентрациях носителей ( п 31018 см-3) дебройлевская длина волны может стать сравнимой с дебаевской длиной и даже с толщиной пленки.  [19]

Если избыточные носители образуются в локальной области образца, то происходит диффузия из области с высокой концентрацией носителей.  [20]

На границе металл - п или металл - р обедненный слой может возникать, но благодаря высокой концентрации носителей заряда в полупроводнике толщина этого слоя очень мала ( менее 5 им), так что носители заряда легко преодолевают его за счет эффекта туннелиро-вания.  [21]

Важную роль в свойствах слоен пространственного заряда играют квантовые эффекты, особенно при низких температурах и высоких концентрациях носителей. Согласно классическому решению Томаса - Ферми, плотность заряда зависит только от локального расстояния между краем зоны и уровнем Ферми и максимальна на границе раздела.  [22]

23 Температурная зависимость квантового выхода генерации носителей т в пленках ПВК и ПВК-ТНФ ( Шехтман, неопубликованные данные. Величина ij определялась как отношение числа носителей на поглощенный квант к выражению [ 1 e3 / 8ire. 0fc27 2 / 7 где j - - тем. [23]

Рекомбинация носителей в комплексе ПВК - ТНФ состава 1: 1 была изучена Хьюзом [76], использовавшим для получения высоких концентраций носителей импульсы света рубинового лазера. Полученные им результаты приведены на рис. 6.5.55 и могут быть объяснены с помощью простой теории рекомбинации носителей, предложенной Ланжевеном ( см. разд.  [24]

В то же время диффузионная теория оказывается совсем неприменимой для таких полупроводников, как германий и кремний, обладающих высокими концентрациями носителей и высокими значениями их подвижности. Толщина запирающих слоев в этих полупроводниках оказывается меньше длины свободного пробега. В результате носители заряда преодолевают запирающий слой без соударений.  [25]

Это указывает на большую роль процессов генерации носителей в р - га-переходе даже для сравнительно тонких переходов, особенно при высокой концентрации носителей в р - и в-областях.  [26]

Эта величина не может быть сопоставлена со значением, полученным Эйгеном и де Майером ( см. ниже), вследствие высокой концентрации носителей заряда и соответствующей концентрации дефектов, которая должна иметь место в таких растворах.  [27]

В последние годы возник повышенный интерес к исследованиям и применениям полупроводниковых соединений, с одной стороны, и к сильнолегироваиным ( имеющим высокую концентрацию носителей тока) полупроводникам - с другой. Этот интерес понятен, так как использование новых типов полупроводников значительно расширяет возможности их практического применения, позволяя подбирать необходимые параметры веществ для создания приборов.  [28]

Выпрямители из карбида кремния ( SiC) используют для работы в условиях высоких температур и в настоящее время изготовляют из материалов с высокой концентрацией носителей.  [29]

30 Зависимость тока насыщения / о от удельного сопротивления р базовой области высокоэффективного солнечного элемента. [30]



Страницы:      1    2    3    4