Cтраница 2
Аналитические пары линий не равной интенсивности привлекаются потому, что аналитических пар равной интенсивности для однозначного определения недостаточно. Если же для спектроскопического определения того или иного сорта стали выбрать, например, три или больше аналитических пар для разных легирующих элементов, присутствующих в данной марке стали, и установить, что в одной из них линия примеси равна по интенсивности линии основного элемента, линия другой ( или той же) примеси менее интенсивна по сравнению с линией основного элемента в другой аналитической паре, а линия третьей примеси в третьей аналитической паре больше по интенсивности линии основного элемента, то этих спектроскопических признаков практически вполне достаточно для безошибочного выделения данной марки стали из всех прочих марок. [16]
Аналитические пары линий не равной интенсивности привлекаются потому, что аналитических пар равной интенсивности для однозначного определения недостаточно. Если же для спектроскопического определения того или иного сорта стали выбрать, например, три или больше аналитических пар для разных легирующих элементов, присутствующих в данной марке стали, и установить, что в одной из них линия примеси равна по интенсивности линии основного элемента, линия другой ( или той же) примеси менее интенсивна по сравнению с линией основного элемента в другой аналитической паре, а линия третьей примеси в третьей аналитической паре больше по интенсивности линии основного элемента, то этих спектроскопических признаков практически вполне достаточно для безошибочного выделения данной марки стали из всех прочих марок. [17]
Тогда в спектре будут хорошо видны линии всех примесей ( рис. 139, б), что позволяет легко найти их и идентифицировать. Раньше широко использовали этот прием и до сих пор принято в спектрах для работы со стилоскопами показывать линии примесей более короткими чем линии основного элемента. [18]
Тогда в спектре будут хорошо видны линии всех примесей ( рис. 134 6), что позволяет легко найти их и идентифицировать. Раньше широко использовали этот прием и до сих пор принято в спектрах для работы со стилоскопами показывать линии примесей более короткими, чем линии основного элемента. [19]
Необходимым условием возможности проведения подобного анализа является примерное равенство интенсивностей линий основного элемента пробы во всех спектрах. Для достижения этого необходимо пользоваться возможно более стабильным источником возбуждения спектра. Для растворов рекомендуется использовать пламя или искру, для порошков, минералов и руд - лугу переменного тока и для металлов - конденсированную искру или также дугу переменного тока. Если почему-либо все же на спектрограмме наблюдаются значительные колебания в интенсивности линий основного элемента пробы в различных спектрах, то эту спектрограмму следует забраковать и повторить всю серию снимков сначала. [20]
На масс-спектрометре измеряют величину этого отношения и определяют содержание различных ионов. Масс-спектр в виде спектрограммы или таблиц содержит величины т / е разделенных ионов и соответствующие им интенсивности. Регистрация масс-спектров проводится обычно с помощью фотопластинок. Для определения концентрации примесей строят характерную кривую зависимости экспозиции Е ( или lg E) от плотности ( или некоторой функции плотности) линии основного элемента или стандарта. [21]
Благодаря широкому диапазону экспозиции при регистрации на фотопластинке искровой источник может использоваться для анализа микропримесей. Используя специальное шасси для передвижения фотопластинки между экспозициями, можно на одной пластинке зарегистрировать несколько спектров. На каждой пластинке время экспозиции различных спектров может в три раза отличаться одно от другого. Общий диапазон изменения экспозиции лежит в пределах от 1 до 106; наибольшая продолжительность экспозиции 10 мин. Для получения точной величины, характеризующей каждую оппозицию, измеряется суммарный заряд, попадающий на контрольный электрод за время экспозиции. В благоприятных случаях могут быть определены линии, интенсивность которых составляет ЫОГ % от интенсивности главной линии при наиболее длительной экспозиции. В некоторых особых случаях этому препятствует ряд обстоятельств: наложение линий основных элементов, сплошной фон, возникающий вследствие столкновений, вызывающих процессы переноса заряда, ореол по краям интенсивных линий на высоких массах или низкая чувствительность примесей по сравнению с основными элементами. [22]