Осаждаемый металл

Cтраница 1

Осаждаемый металл предварительно связывают в прочный комплекс так, чтобы после прибавления осадителя не происходило реакции. Затем создают условия, чтобы комплекс медленно разлагался. [1]

Осаждаемый металл должен быть плотным и хорошо сцепляться с металлической фазой электрода, чтобы не было механических потерь. [2]

Кристаллические решетки металлов. [3]

Некоторые осаждаемые металлы, например хром, железо, марганец, в зависимости от условий электролиза могут иметь различное кристаллографическое строение. Так, осадки хрома могут при одних условиях электролиза иметь кубическую объемноцентриро-ванную решетку, а при других - гексагональную. [4]

Количество осаждаемого металла для комплексообразующей среды при определенном потенциале осаждения начинает уменьшаться с определенной концентрации лиганда. Характер процесса растворения ( форма кривых растворения) для комплексообразующей среды сохраняется тот же, что и для случая без образования комплексов. [5]

Количество осаждаемого металла пропорционально количеству прошедшего через электрод электричества. [6]

Природа осаждаемого металла, а также подкладки, имеет существенное значение для их сцепляемости. Известно, что иногда самая тщательная предварительная подготовка поверхности электрода не улучшает ее сцепляемости. Финча и его сотрудников [34], для обеспечения хорошей сцепляемости осадка с основным металлом необходимо, чтобы растущий осадок воспроизводил кристаллическую структуру металла катода. [7]

Кристаллическая структура осаждаемых металлов зависит от двух процессов: возникновения центров кристаллизации на катоде и роста кристаллов из возникших центров кристаллизации. Если скорость первого процесса превышает скорость второго, то образуется мелкокристаллический осадок. Точной зависимости между плотностью тока, концентрацией электролита и кристаллической формой осадка не установлено, но известно, что чем выше плотность тока, тем больше скорость зарождения центров кристаллизации и тем мельче структура осаждаемого металла. Чрезмерно высокие плотности тока, вследствие медленной диффузии ионов к катоду, вызывают образование рыхлых, порошкообразных осадков и наростов. [8]

Концентрация ионов осаждаемого металла в комплексных растворах понижена. Эти растворы допускают применение невысоких плотностей тока и часто используются в гальванотехнике. [9]

Основная масса осаждаемого металла выделяется в первые 15 - 20 мин. [10]

При сплавообразовании осаждаемого металла с твердой подкладкой фронт роста должен сохранять устойчивость для всех режимов электролиза, до тех пор пока на поверхности осадка не образуется слой чистого металла. [11]

В раствор осаждаемого металла вводят не свободный осадитель, а вещества, которые медленно образуют осадитель в определенных условиях реакции. Наиболее простой пример - осаждение сернокислого бария персульфатом, который при нагревании медленно разлагается, образуя сульфат-ионы. Чтобы получить плотные и чистые осадки купферонатов металлов, в раствор вводят фенилгидроксиламин и нитрит натрия. Эти вещества медленно образуют купферон, который и осаждает металл. Наиболее разработаны те методы этой группы, в которых осадитель вводят в виде эфира соответствующей кислоты. При нагревании эфир медленно гидролизуется, образуя кислоту, которая в соответствующих условиях вызывает осаждение. [12]

В раствор осаждаемого металла вводят не свободный осадитель, а вещества, которые медленно образуют осадитель в определенных условиях реакции. Наиболее простой пример - осаждение сернокислого бария персульфатом, который при нагревании медленно разлагается, образуя сульфат-ионы. Чтобы получить плотные и чистые осадки купферонатов металлов, в раствор вводят фенилгидроксиламин и нитрит натрия. Эти вещества медленно образуют купферйн, который и осаждает металл. Наиболее разработаны те методы этой группы, в которых осадитель вводят в виде эфира соответствующей кислоты. При нагревании эфир медленно гидролизу ется, образуя кислоту, которая в соответствующих условиях вызывает осаждение. [13]

Программно управляемая установка нестационарного электролиза. [14]

Увеличение концентрации ионов осаждаемого металла в прикатодном слое позволяет увеличить скорость осаждения. [15]

Страницы: 1 2 3 4