Насыщаемый металл

Cтраница 2

При диффузии по межузельному механизму образовавшиеся при диссоциации атомы диффундирующего элемента адсорбируются поверхностью насыщаемого металла, располагаясь в меж-узлиях. Диффузия адсорбированных атомов происходит также по межузлиям. Межузельный механизм диффузии характерен для диффузии атомов примесей в твердых растворах внедрения. Размеры атомов углерода значительно меньше размеров атомов железа и поэтому могут достаточно легко и быстро перемещаться по межузлиям, и в данном случае процесс диффузии не зависит от вакансий. [17]

Таким образом, для повышения скорости вакуумного силициро-вания необходимо обеспечивать неизотермический нагрев кремния и насыщаемых металлов, а именно - температура металла должна быть ниже температуры кремния. [18]

Преобладание той или иной реакции передачи насыщающего компонента обусловливается несколькими факторами, в том числе сродством насыщаемого металла к насыщающему элементу, различием в сродстве металла и насыщающего элемента к галогену-транспортеру, концентрацией элемента в покрытии на той или иной стадии процесса, содержанием легирующих элементов в металле. [19]

Образование устойчивых диффузионных слоев без нарушения оплошности твердого тела возможно лишь при условии, когда решетки насыщаемого металла не претерпевают сильного искажения в местах образования покрытий. [20]

Образование устойчивых диффузионных слоев без нарушения сплошности твердого тела возможно лишь при условии, когда решетка насыщаемого металла не претерпевает сильного искажения в местах образования покрытий. [21]

Образование устойчивых диффузионных слоев без нарушения сплошности твердого тела возможно лишь при условии, когда решетки насыщаемого металла не претерпевают сильного искажения в местах образования покрытий. [22]

Спекание различной формы частиц диффундирующего металла с поверхностью насыщаемого металла ( схема. [23]

Передача элемента через паровую фазу происходит в том случае, когда упругость паров диффундирующего металла значительно больше упругости паров насыщаемого металла. Как в первом, так и во втором случае предшествующие процессу диффузии начальные условия на поверхности металла оказываются различными. [24]

Вакуумное силицирование можно проводить в засыпке из высокочистого порошка кремния; кроме того, его можно вести в условиях, когда насыщаемый металл и кремний удалены один от другого и могут быть нагреты до разных температур. В процессе силицирования в вакууме обычно не используют активирующих добавок, которые, ускоряя образование силицидных покрытий, загрязняют покрытия и снижают их защитные свойства. Поэтому, как правило, вакуумные силицидные покрытия отличаются более высокими техническими характеристиками по сравнению с покрытиями, полученными другими способами. Однако процесс вакуумного силицирования длителен, дорог, не отличается высокой производительностью, имеет существенные ограничения в габаритах и форме деталей и поэтому пока не нашел широкого практического применения. Тем не менее, в ряде случаев, где требуется высокая химическая чистота и плотность покрытий, он наиболее приемлем. [25]

Твердофазный ( или твердый) метод используют тогда, когда необходимо провести насыщение элементом, упругость пара которого значительно ниже упругости пара насыщаемого металла. [26]

Особые трудности появились при объяснении механизма начальной стадии реакционной диффузии, когда на насыщаемой поверхности возникает слоистая структура, состоящая из интерме-таллидов или других соединений диффундирующего элемента с насыщаемым металлом. [27]

Равновесные составы хлоридов ( а и фторидов ( б алюминия в зависимости от температуры. [28]

Таким образом, на примере алитирования металлов показана движущая сила диффузионного насыщения циркуляционным методом - это перепад парциального давления газа-переносчика диффундирующего элемента, который порождается либо перепадом температур между диффундирующим элементом и насыщаемым металлом, либо перепадом активностей диффундирующего элемента в исходном материале и на поверхности насыщаемых деталей. [29]

Непосредственно из твердой фазы может образоваться диффузионное покрытие, если, во-первых, обеспечен тесный контакт зерен или порошка диффундирующего вещества с поверхностью изделия и, во-вторых, упругость пара диффундирующего элемента значительно меньше упругости пара насыщаемого металла. В этом случае диффузия происходит только через места контактирования. Однако, такой процесс идет медленно и в практике не применяется, поскольку поверхность контакта ничтожна - и исчисляется всего лишь миллионными долями полной поверхности зерен. [30]

Страницы: 1 2 3 4