Механизм - образование - радикал - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
"Имидж - ничто, жажда - все!" - оправдывался Братец Иванушка, нервно цокая копытцем. Законы Мерфи (еще...)

Механизм - образование - радикал

Cтраница 1


1 Выход стабилизированных радикалов в - облученных при 77 К алкилгалогенидах. [1]

Механизм образования радикалов при радиолизе алкилфторидов отличается от механизма образования радикалов у других алкилгалогенидов.  [2]

Механизм образования наблюдавшихся радикалов, вероятно, следующий: облучение образцов УФ-радиацией ( 365 нм) приводит к разрыву связей - Si-О ( или С-О) в поверхностных эфирных группах с образованием активных алкоксильных ( или алкильных) радикалов с последующим отрывом этими радикалами водорода от эфирных групп на поверхности силикагеля.  [3]

Механизм образования наблюдавшихся радикалов, вероятно, следующий: облучение образцов УФ-радиацией ( К 365 нм) приводит к разрыву связей - - Si-О ( или С-О) в поверхностных эфирных группах с образованием активных алкоксильных ( или алкильных) радикалов с последующим отрывом этими радикалами водорода от эфирных групп на поверхности силикагеля.  [4]

Механизм образования радикалов СН, так же как и радикалов С2, неясен. Может быть, они появляются в результате последовательного отрыва атомов водорода от молекул углеводорода, скажем, под действием атомов Н, как это принимается для атомных пламен ( см. стр.  [5]

Для выяснения механизма образования радикалов при действии излучений необходимо сопоставлять данные ЭПР, масс-спектрометрии и данные о составе продуктов радиолиза, а также фотолиза.  [6]

7 Кинетические кривые изменения ( СН3 ири освещении образца светом максимальной интенсивности ( а и в темноте ( б.| Линейные анаморфозы кинетической кривой роста ( СН3 под действием света максимальной интенсивности ( а и кинетической кривой уменьшения ( СН3 в темноте ( б О-внешняя шкала. - внутренняя шкалч. [7]

Для выяснения механизма образования радикалов под светом были проведены опыты по изучению кинетики накопления свободных радикалов в зависимости от интенсивности падающего света. На рис. 95 приведены / гсэфф и ( СНз) ооВ зависимости от интенсивности света.  [8]

Однако при обсуждении механизма образования радикалов нельзя ограничиться рассмотрением только реакций возбужденных молекул - необходимо учитывать и ионные процессы. Известно [216, 217], что при низкотемпературном радиолизе ароматических углеводородов стабилизируются заряженные частицы. Наблюдается заметная разница в составе продуктов фотолиза и радиолиза: при фотолизе бензола образуются в основном его изомеры ( фульвен, бензвален, дьюаровский бензол) [218], при радиолизе - дифенил. Это может служить косвенным указанием на важную роль ионных процессов при радиолизе.  [9]

О природе или механизме образования радикалов из мономера ничего неизвестно. Выход радикалов может быть вычислен из кинетики полимеризации [ С37, N9 ] ( см. также ссылки в табл. 5, стр.  [10]

11 Зависимость выхода радикалов - СГ12ОН, адсорбированных на разных силпкагелях, от электронной доли метанола. [11]

Можно предполагать, что механизм образования радикалов при облучении молекул на этих сорбентах также различается. Однако выход радикалов и парамагнитных центров зависит не только от природы адсорбента, но и от других факторов. Так, G ( R) и G ( ПЦ) могут зависеть от способа получения сорбента и количества примесей в нем.  [12]

В заключение отметим, что механизм образования радикалов в жидкостной клетке может быть, по-видимому, представлен следующим образом. Сначала происходит распад молекулы с образованием горячего атома водорода ( или другого легкого радикала), который затем вступает в реакцию замещения в непосредственной близости к точке своего образования, в том числе, возможно, и в исходной молекуле. В пользу указанного предположения говорит отмеченное нами образование цикленов при радиолизе высокомолекулярных углеводородов [3], идущее, очевидно, через бирадикальные промежуточные продукты.  [13]

14 Зависимость скорости образования радикалов от концентрации капроновой кислоты при распаде гидроперекиси н. децила в токе азота при различных температурах ( в С.| Зависимость скорости распада гидроперекиси трет, бутила ( [ ROOHJo. 0 042 молъ / л от содержания н. бутанола в хлорбензоле. [14]

Методом ингибиторов [34] был изучен механизм образования радикалов в системе гидроперекись трет. В зависимости от [ R OH ] величина Aj WV [ ROOH ] a проходит через максимум.  [15]



Страницы:      1    2    3