Cтраница 3
Точность установки электронного луча в плоскости носителя информации 6 определяется в основном, ошибками отклонения второго каскада отклонения, так как неточности отклонения в первом каскаде устраняются за счет вырезания из сечения электронного луча части, площадь которой равна площади апертурного отверстия микролинзы. [31]
Угол падения электронного луча на микролинзу определяется первым каскадом отклонения, а выбор микролинзы выполняет второй каскад отклонения. Каждая микролинза формирует в плоскости носителя информации 6 малый растр, число точек в котором равно числу дискретных углов падения электронного луча. [32]
Для записи ДОЭ с произвольной структурой используется программное обеспечение, преобразующее прямоугольную систему координат в полярную для модуляции записывающего лазерного пучка в зависимости от углового Пространственное разрешение записываемых структур превышает 1000 мм 1 записи, как кольцевых структур, так и произвольных микроизображений. Например, на данной установке были записаны бинарные фотошаблоны растра микролинз. [33]
В УДАЭЛ имеются две корректирующие пластины с отверстиями и два растра микролинз. После первого каскада отклонения помещены корректирующая пластина и растр из 16 микролинз, после второго - корректирующая пластина и растр из 256 микролинз. Время установки луча в одно из 4096 положений составляет около 1 икс. [34]
В двухкаскадном УДАЭЛ с коррекцией, описанном в работе [46], применяется электростатическое отклонение луча. Корректирующая пластина вместе с двумя параллельными ей пластинами с соосными отверстиями образует растр микролинз. [35]
Микролинзы, обволакивающие агрегаты зерен, различают первичные, не изменявшие своего положения в процессе вытеснения, и линзы вторичные, которые образовались в процессе перемещения части нефти в поровом пространстве. Предполагается, что нефть, оставшаяся в обводненной части пласта, состоит в основном из первичных микролинз, трудно поддающихся диспергированию и удалению из пористой среды. [36]
В УДАЭЛ имеются две корректирующие пластины с отверстиями и два растра микролинз. После первого каскада отклонения помещены корректирующая пластина и растр из 16 микролинз, после второго - корректирующая пластина и растр из 256 микролинз. Время установки луча в одно из 4096 положений составляет около 1 икс. [37]
В таких случаях рекомендуется на зависимости TI - f ( H) проводить две оконтуривающие кривые - по максимальным и минимальным значениям градиентов поровых давлений, а затем экстраполировать их ниже фактического забоя скважины. Природа АВПД в глинистых толщах обусловлена их недоуплот-нением, а оконтуривающая линия, построенная по максимальным значениям градиентов, соответствует усредненному изменению градиентов поровых давлений по разрезу в средних частях глинистых интервалов, а также пластовым давлениям в микролинзах коллекторов внутри этих глинистых толщ. Линия, проведенная по минимальным значениям, отражает усредненное изменение р юр в глинах на контакте с коллекторами и, следовательно, изменение рпл в хороших коллекторах. [38]
![]() |
Схематическое изображение многолучевой электронной пушки с цилиндрической системой электродов..| Схематическое изображение многолучевой электронной - пушки с малой эмиттирую-щей площадью катода. [39] |
Электронный пучок после прохождения точки фокусировки расходится под большим углом. Электронная линза с большой апертурой отклоняет электронные пучки так, чтобы они падали на плоскость растровой линзы перпендикулярно. Каждая микролинза в растровой линзе формирует свой электронный луч. Если считать, что плотность тока в основном электронном луче распределена по закону Гаусса, то. [40]
Изменения удельной электрической емкости черной пленки под действием электрического поля могут быть обусловлены различными причинами. Кроме уменьшения толщины пленки возможны и изменения ее диэлектрической проницаемости. Кроме того, ряд авторов [177, 178] допускает существование микролинз растворителя в черной пленке. [41]
Угол падения электронного луча на микролинзу определяется первым каскадом отклонения, а выбор микролинзы выполняет второй каскад отклонения. Каждая микролинза формирует в плоскости носителя информации 6 малый растр, число точек в котором равно числу дискретных углов падения электронного луча. Поэтому неточности отклонения второй отклоняющей системы в определенных пределах не сказываются на положении электронного луча после прохождения апертурного отверстия микролинзы. [42]
Было проведено два варианта расчета процесса обводнения. Во втором варианте расчеты проводились при условии, что застойные зоны отсутствуют и все запасы нефти активно вытесняются водой. В обоих вариантах учитывались особенности фильтрации при малых градиентах давления и считалось, что в малопроницаемых зонах ( микролинзах) нефть находится в неподвижном состоянии. [43]