Потенциальный барьер - отталкивание
Cтраница 1
Потенциальный барьер отталкивания ( LJMaKc) возникает в результате суммирования сил отталкивания и притяжения, действующих между коллоидными частицами. [1]
 |
Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. [2] |
Потенциальный барьер отталкивания ( f / макс) возникает в результате суммирования сил отталкивания и притяжения, действующих между коллоидными частицами. [3]
Потенциальный барьер отталкивания ( Вмакс) возникает в результате суммирования сил отталкивания и притяжения, действующих между коллоидными частицами. [4]
 |
Потенциальная энергия Ж6НИЯ ( КР ВаЯ 4 На РИС 103 H3 взаимодействия между двумя оди - ступает быстрая к о а г у л я. [5] |
Потенциальный барьер отталкивания ( I / макс) возникает в результате суммирования сил отталкивания и притяжения, действующих между коллоидными частицами. [6]
В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( С / макс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжинается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 101), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 104), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита. [7]
В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( [ / Макс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита. [8]
В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( L / макс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита. [9]
В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( f / макс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого элек тролита. [10]
В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( f / макс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита. [11]
Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. [12]
 |
Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. [13] |
Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию. [14]
Страницы: 1 2 3