Потенциальный барьер - отталкивание - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Существует три способа сделать что-нибудь: сделать самому, нанять кого-нибудь, или запретить своим детям делать это. Законы Мерфи (еще...)

Потенциальный барьер - отталкивание

Cтраница 2


Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. При некоторых, небольших положительных значениях / 7макс ( кривая 3) преодолеть его могут лишь немногие коллоидные частицы с достаточно большой кинетической энергией. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию.  [16]

17 Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. J - электрическое отталкивание (. / э. 2-дисперсионное притяжение ( Уд. 3 -результирующая энергия взаимодей. ствия (. /. 4 - то же, но при более крутом падении кривой /. х - расстояние между частицами.. / макс-потенциальный барьер взаимодействия дисперсных частиц. [17]

Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию.  [18]

Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. При некоторых, небольших положительных значениях t / MaKC ( кривая 3) преодолеть его могут лишь немногие коллоидные частицы с достаточно большой кинетической энергией. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию.  [19]

20 Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. / - электрическое отталкивание (. эМ 2-дисперсионное притяжение Ujfr, S - результирующая энергия взаимодействия ( [ /. 4 - то же, но при более крутом падении кривой /. х-расстояние между частицами. UM3KC - потенциальный барьер взаимодействия дисперсных частиц. [20]

Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию.  [21]

Оказалось, что для достижения критического состояния, при котором может произойти перераспределение связей, взаимодействующие частицы должны сблизиться на еще меньшие дистанции, чем расстояния, при которых действуют вандерваальсовы силы притяжения и в пределах которых действуют уже силы отталкивания. Для преодоления этих сил отталкивания необходимо сообщить частицам дополнительную энергию, которая позволила бы преодолеть потенциальный барьер отталкивания, возникающий на пути к реакции. Чтобы прореагировать, взаимодействующие частицы должны пройти через вершину этого барьера, высота которого над уровнем исходного состояния определяет величину энергии активации. Последняя физически является антиподом энергии отталкивания между частицами.  [22]

Эффективные сечения выражают в единицах называемых барнами. Для положительно заряженных частиц эффективное сечение ядерной реакции чаще всего равно нулю до тех пор, пока частица несет энергию меньше той, которая необходима для преодоления потенциального барьера отталкивания от ядра. Дальнейшее увеличение энергии частиц ведет к быстрому экспоненциальному росту эффективного сечения до тех пор, пока оно не достигнет величины, близкой к геометрическому.  [23]

С увеличением концентрации любого электролита происходит перестройка двойного электрического слоя, окружающего коллоидные частицы: все большая часть противо-ионов вытесняется из диффузной в адсорбционную часть двойного электрического слоя. Толщина диффузной части двойного электрического слоя ( слой 4 на рис. 100), а вместе с ней и всего двойного электрического слоя ( слой 2 на рис. 100) уменьшается. В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( UuaKC) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита.  [24]

С увеличением концентрации любого электролита происходит перестройка двойного электрического слоя, окружающего коллоидные частицы: все большая часть противо-ионов вытесняется из диффузной в адсорбционную часть двойного электрического слоя. Толщина диффузной части двойного электрического слоя ( слой 4 на рис. 100), а вместе с ней и всего двойного электрического слоя ( слой 2 на рис. 100) уменьшается. В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( [ Л акс) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 100), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция. Такое изменение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавлении любого электролита.  [25]

С увеличением концентрации любого электролита происходит перестройка двойного электрического слоя, окружающего коллоидные частицы: все большая часть противоио-нов вытесняется из диффузной в адсорбционную часть двойного электрического слоя. Толщина диффузной части двойного электрического слоя ( слой 4 на рис. 10.14), а вместе с ней и всего двойного электрического слоя ( слой 2 на рис. 10.14) уменьшается. В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( J5MaKC) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 10.14), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 10.17), наступает быстрая коагуляция. Такое измерение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавления любого электролита.  [26]

27 Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. 1 - электрическое отталкивание ( Еот. 2 - дисперсионное притяжение ( Е р. 3 - результирующая энергия взаимодействия (. Мв. 4 - то же, но при более крутом падении кривой 1. г - расстояние между частицами.. Емакс - потенциальный барьер взаимодействия дисперсных частиц. [27]

На рис. 10.17 приведены зависимости величин ЕОТ и Епр от расстояния между коллоидными частицами. Как видно, результирующая энергия взаимодействия ( кривая 3 на рис. 10.17) приводит к притяжению ( Емв 0) на очень малых и отталкиванию ( Еыв 0) на больших расстояниях между частицами. Решающее значение для устойчивости дисперсных систем имеет величина потенциального барьера отталкивания ( Емакс), которая, в свою очередь, зависит от хода кривых Еот и Епр. При больших значениях этого барьера коллоидная система устойчива. Слипание коллоидных частиц возможно лишь при достаточном их сближении. Это требует преодоления потенциального барьера отталкивания. При некоторых небольших положительных значениях JEMaKC ( кривая 3) преодолеть его могут лишь немногие коллоидные частицы с достаточно большой кинетической энергией. Это соответствует стадии медленной коагуляции, когда только небольшая часть соударений коллоидных частиц приводит к их слипанию. При медленной коагуляции со временем происходит некоторое уменьшение общего числа коллоидных частиц в результате образования агрегатов из 2 - 3 первичных частиц, но коагулят не выпадает. Подобную коагуляцию, не сопровождающуюся видимым изменением коллоидного раствора, называют скрытой коагуляцией. При дальнейшем уменьшении потенциального барьера скорость коагуляции, характеризуемая изменением числа частиц в единицу времени, возрастает.  [28]

Неустойчивые многокомпонентные дисперсии вследствие преобладания сил притяжения должны коагулировать согласно теории быстрой коагуляции. Однако здесь могут быть некоторые отступления, вызванные кон-центрациошшми соотношениями и размером разнородных частиц. Если Рг 10 - 15 кТ, а Рц и PJ меньше 10 кТ ( Р, Рj, PU - соответственно потенциальные барьеры отталкивания между частицами), то возможны три случая: 1) / гг HJ, 2) ni g rij и 3) ni iij. В первых двух случаях системы быстро коагулируют. В последнем случае малые частицы г, взятые в избытке из-за их большей подвижности, концентрируются вокруг крупных частиц /, образуя на них своеобразную сферу, прочность которой зависит от глубины потенциальной ямы ( первичной или вторичной) и радиуса разнородных частиц. Устойчивость образо - ] аниых мицелл, когда все частицы / покрыты частицами г, определяется же величиной / -, а не Р, и такую систему можно рассматривать как однокомпонентную. Скорость коагуляции возникших мицелл ввиду появления между ними высокого потенциального барьера и уменьшения концентрации частиц должна резко понизиться, в результате чего система становится агрегативно устойчивой.  [29]

Подобную коагуляцию не сопро вождающуюся видимым изменением коллоидного раствора, называют скрытой коагуляцией. При дальнейшем уменьшении потенциального барьера скорость коагуляции, характеризуемая изменением числа частиц в единицу времени, возрастает. Наконец, если потенциальный барьер переходит из области отталкивания в область притяжения ( кривая 4 на рис. 103), наступает быстрая коагуляция, когда каждое соударение коллоидных частиц приводит к их слипанию; в коллоидном растворе образуется осадок - коагулят, происходит явная коагуляция. Потенциальный барьер отталкивания ( t / макс) возникает в результате суммирования сил отталкивания и притяжения, действующих между коллоидными частицами.  [30]



Страницы:      1    2    3