Мощность - плазменная струя
Cтраница 1
 |
Схема установки плазменной обработки металлов. [1] |
Мощность плазменной струи и напряжение дуги регулируются расположением электрода в канале. [2]
Водород повышает напряжение горения дуги, что увеличивает мощность плазменной струи. [3]
 |
К. п. д. плазмотрона с вынесенной дугой ( длина дуги 4 см, диаметр сопла 0 6 см, его длина 1 подача газа тангенциальная. [4] |
Молекулярные газы азот и водород позволяют при тех же токах дуги увеличить мощность плазменной струи; гелий как атомарный газ с низкой плотностью обеспечивает увеличение скорости плазменной струи. Так, фирма Метко ( США) широко использует различные смеси газов для регулирования процесса плазменного напыления. Однако следует учитывать не только увеличение мощности плазменной струи, но и к. [5]
Из рис. 2 видно, что степень разложения карбонатов увеличивается с ростом мощности плазменной струи и достигает 100 % при 30 кет для плазмотрона с подачей материала в канал сопла и 20 кет с подачей материала в пюлый катод. [7]
Наибольший эффект достигается при числе разрядов на 1 см2 упрочняемой поверхности, равном 320 - 340, силе тока короткого замыкания 3 8 - 4 0 Аи трехкратной плазменной обработке с погонной мощностью плазменной струи 0 23 - 0 27 кДж / см. В качестве легирующих электродов рекомендуется использовать твердые сплавы или комплекс кар-бидообразующих металлов. [8]
 |
Плазменная головка. [9] |
Сравнительно холодная оболочка струи газа, соприкасающаяся со стенками канала и сопла, изолирует их от теплового воздействия разряда. Напряжение дуги и мощность плазменной струи регулируются изменением уровня погружения электрода / в канал. [10]
 |
Распределение мощности, выделяемой в дуге ( /, и теплового потока в стенку канала плазмотрона ( 2 - 5 при токе дуги 150 А ( диаметр канала 1 см, давление атмосферное. [11] |
На катоде с диаметром площадки 1 5 - 2 0 мм пятно дуги мигрирует по кромке площадки и вызывает колебания всего столба дуги. Потери тепла возрастают и мощность плазменной струи уменьшается, особенно при увеличении длины дуги. Это хорошо согласуется с данными рис. 18, полученными на притупленном катоде. [12]
 |
Принципиальные схемы устройства для создания плазменной струи. [13] |
Мало ионизированная, сравнительно холодная струйная оболочка газа, соприкасающаяся со стенками сопла и канала, изолирует последние от теплового воздействия разряда. Опусканием электрода в канал регулируются напряжение дуги и мощность плазменной струи. [14]
Малоионизированная, сравнительно холодная струйная оболочка газа, соприкасающаяся со стенками сопла и канала, изолирует последние от теплового воздействия разряда. Опусканием электрода в канал регулируются напряжение дуги и мощность плазменной струи. [15]
Страницы: 1 2