Наличие - структурный дефект - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Если мужчина никогда не лжет женщине, значит, ему наплевать на ее чувства. Законы Мерфи (еще...)

Наличие - структурный дефект

Cтраница 1


Наличие структурных дефектов сказывается не только на физических свойствах, но и на химической активности веществ. Так, от концентрации и рода дефектов зависят скорость реакции термического разложения, каталитические и многие другие свойства. Следовательно, примеси играют чрезвычайно важную роль в формировании физико-химических характеристик продуктов.  [1]

Наличие структурных дефектов в полимерных цепях, таких, например, как третичные атомы углерода или концевые двойные связи, благоприятствуют деструкции. Наилучшей термостабильностью отличается хлорированный продукт, полученный из ПВХ с достаточно большой молекулярной массой и максимальной стереорегулярностью при условии непрерывного удаления хлористого водорода, образующегося при хлорировании. Вторичная конденсация ( сшивание) плоских молекул приводит к образованию разупорядоченных кристаллитов графитоподобной структуры.  [2]

Наличие структурных дефектов приводит в свою очередь к ухудшению свойств кристалла, например к уменьшению времени жизни и подвижности неосновных носителей заряда. Приборы, изготовленные из такого кристалла, будут иметь значительно меньший коэффициент передачи тока. Поэтому наиболее благоприятной является плоская поверхность раздела ( рис. 2.2 6), исключающая появление внутренних напряжений. Ввиду того что на поверхности раздела концентрация примеси постоянна, сохранение плоского фронта кристаллизации существенно также для равномерного распределения примесей в поперечном сечении кристалла.  [3]

Наблюдаемый характер разрушения объясняется наличием структурных дефектов покрытий, таких, как металлический титан в покрытии TIN и поры, выполняющих роль концентраторов напряжений, снижающих сопротивляемость модифицированных слоев коррозионно-механическому изнашиванию. В процессе прерывистого резания образование сетки микротрещин может привести и к разрушению материала основы за счет отрыва частиц покрытия в местах их прочных связей с твердым сплавом. Трещиностойкость износостойкого комплекса покрытие-основа зависит от релаксационных свойств тугоплавких фаз, входящих в его состав.  [4]

Наблюдаемый характер разрушения объясняется наличием структурных дефектов покрытий, таких, как металлический титан в покрытии TiN и поры, выполняющих роль концентраторов напряжений, снижающих сопротивляемость модифицированных слоев коррозионно-механическому изнашиванию. В процессе прерывистого резания образование сетки микротрещин может привести и к разрушению материала основы за счет отрыва частиц покрытия в местах их прочных связей с твердым сплавом. Трещиностойкость износостойкого комплекса покрытие-основа зависит от релаксационных свойств тугоплавких фаз, входящих в его состав.  [5]

Хрупкое разрушение сплавов TiC-Ni-Mo происходит в местах наличия структурных дефектов, расположение и размеры которых оказывают существенное.  [6]

Иногда взрыв, сопровождающийся раздавливанием, является результатом наличия структурных дефектов в стекле, из которого собрана установка, работающая под вакуумом.  [7]

Теоретическая прочность ( сопротивление разрыву межатомных связей) в реальных кристаллах из-за наличия структурных дефектов не достигается. Реальная прочность на два-три порядка ниже теоретической и определяется не столько межатомными силами связи, сколько структурой материала.  [8]

Ранее нами было установлено [2], что при подобных способах получения слоев полупроводников весьма важным фактором, определяющим наличие структурных дефектов ( в основном напряжений и дислокаций), является различие в коэффициентах термического расширения слоя и подложки. Были проведены оценки возникающих напряжений и плотностей дислокаций в слоях кремния на различных подложках и проведено экспериментальное исследование распределения плотности дислокаций по толщине и площади слоев.  [9]

Промежуточный слой из смеси УДП двух металлов, способных взаимодействовать друг с другом, наряду с избыточной свободной энергией, обусловленной развитой поверхностью составляющих ее дисперсных частиц и наличием структурных дефектов, обладает избыточной энергией, связанной с возможностью образования сплава. Поэтому при спекании двухкомпонентных порошковых промежуточных слоев - бинарных смесей УДП - должны протекать, в сущности, два процесса: их объемная усадка и формирование сплава.  [10]

11 Выпрямляющий контакт металл - полупроводник n - типа с приложенный внешним напряжением V в прямом ( а и обратном ( б направлениях. Штрихами показано положение зон в отсутствие внешнего смещения.| Типичные вольт-амперные характеристики контактов металл - полупроводник ( Си - ку-проксного вентиля, Se - селенового вентиля, Ое - т - точечного германиевого диода, S1 - т - точечного кремниевого диода и переходов ( Ое - п - плоскостного германиевого диода, Si - п - плоскостного кремниевого диода.| Энергетическая схема р-п перехода. [11]

Исключая определенные типы точечных диодов, в этих приборах широко применяются полупроводниковые материалы поликристаллическо структуры, которая отличается сильным несовершенством. Связанное с наличием структурных дефектов большое количество дополнительных уровней внутри запрещенной зоны, а также сильное влияние поверхностных явлений ( см. стр. От этих недостатков в значительной мере свободны полупроводниковые диоды с плоскостными р-п переходами.  [12]

Структурные дефекты потому приобрели в кристаллохимии столь важную роль, что их наличие резко повышает подвижность частиц в кристалле. В связи с этим по сравнению со случаями полной упорядоченности при наличии структурных дефектов облегчаются как диффузия, так и протекание химических реакций в твердом состоянии.  [13]

Как уже отмечалось, цепочки ДНК плотно намотаны на нуклео-сомы, диски которых обладают определенной подвижностью - их перемещения по спирали напоминают движения штопора. И вновь необходимо оговориться, что в действительности все устроено гораздо сложнее, хотя бы из-за наличия структурных дефектов, перемещающихся при любых взаимодействиях.  [14]

Наиболее полная и последовательная теория катализа на полупроводниках была предложена Волькенштейном. Правда, теория Воль-кенштейна не позволяет еще ни точно предсказать все каталитические свойства полупроводников, ни выбрать a priori подходящий катализатор для данной конкретной реакции, но вообще сомнительно, чтобы подобную задачу сейчас могла решить какая-либо теория. Действительно, полупроводники являются сложными системами, свойства и электронная структура которых зависят от незначительных модификаций химического состава и наличия структурных дефектов, возникающих в процессе предварительной обработки данного образца. Поэтому вполне возможно, что полупроводники, почти идентичные по составу, будут сильно отличаться по свойствам.  [15]



Страницы:      1    2