Наложение - поле
Cтраница 4
Поле вне экрана является результатом наложения поля некоторого эквивалентного диполя, помещенного в центре экрана, на внешнее однородное поле. [46]
В ряде работ [4, 55, 76, 77] при наложении поля на планарную текстуру параллельно оси спирали наблюдался сдвиг максимума селективного отражения в коротковолновую часть спектра. В [79] дается совершенно иное объяснение синему сдвигу, который может быть связан с несовершенствами планарной текстуры, отдельные участки которой по-разному ориентированы и имеют различный порог периодической неустойчивости. [47]
Поле вне экрана должно являться результатом наложения поля некоторого эквивалентного диполя, помещенного в центре экрана, на внешнее однородное поле. [48]
Начальная скорость полимеризации в этом сосуде без наложения поля оказалась примерно в 2 раза выше ( кривая 1 на рис. 2), чем в случае стеклянного сосуда при прочих одинаковых условиях. Очевидно, это является следствием каталитического действия металлических стенок сосуда. [49]
В смазках с электрически непрерывным структурным каркасом наложение поля вызывает сперва неравномерное растяжение каркаса в межэлектродном пространстве, а затем его сжатие у одного из электродов, в суспензиях мыл возникает вращательное движение - циркуляция частичек дисперсной фазы в комбинации с перемещением их в сторону одного из электродов. С течением времени циркуляция затухает и на электроде образуется рыхлый осадок. Эти процессы имеют место при наличии различно заряженных участков поверхности, но при отсутствии баланса положительных и отрицательных зарядов. [50]
 |
Типичные вольтамперные характеристики для туннельного контакта Nb3Sn со сверхпроводящим и нормальным индием при 1 7 К. [51] |
Никакого изменения в туннельных характеристиках Nb3Sn при наложении поля вплоть до 7500 гс не наблюдалось, если приложенное поле превышало критическое поле другого металла ( свинца или индия), кривая не изменялась и при дальнейшем увеличении поля. [52]
Здесь важно помнить, что до и после наложения поля не меняется геометрическая область интегрирования, так что какие-то части среды, вследствие деформации, выйдут за границу области интегрирования, а другие части среды могут проникнуть снаружи этой области внутрь нее. [53]
Существует два класса феррозондов, различающихся по способу наложения поля возбуждения. [54]
Построив для этого случая картину результирующего поля машины наложением поля якоря на поле полюсов ( рис. 20 - 10 8), найдем, что ось результирующего поля поворачивается относительно геометрической оси главных полюсов. Распределение индукции Вх в зазоре под полюсами становится несимметричным относительно оси полюсов: под сбегающей половиной каждого полюса генератора индукция увеличивается, под набегающей - уменьшается. [55]
Построив для этого случая картину результирующего поля машины наложением поля якоря на поле полюсов ( рис. 16.16, в), найдем, что ось результирующего поля поворачивается относительно геометрической оси главных полюсов. Распределение индукции Вх в зазоре под полюсами становится несимметричным относительно оси полюсов: под сбегающей половиной каждого полюса генератора индукция увеличивается, под набегающей - уменьшается. [56]
Формула выведена при допущении неизменности поверхностного заряда а0 при наложении поля. [57]
Страницы: 1 2 3 4