Нафтохинондиазид
Cтраница 1
Нафтохинондиазиды представлены большим числом веществ. Из двух возможных изомеров о-нафтохинондиазидов: 1 2-нафто-хинондиазидов ( XLVII) и 2, 1-нафтохинондиазидов ( XLVIII) - только первые имеют практическую ценность, очевидно вследствие значительно более высокой чувствительности к свету. [1]
Действие нафтохинондиазида ( НХДА) состоит в разрыве связи CN2 с отщеплением молекулы азота. Этот акт происходит под воздействием фотона. Гексацикл становится неустойчивым и перестраивается в пентацикл с последующей перестройкой в инденкарбен и в растворимые соли инденкарбоновой кислоты. В качестве полимерной основы используют новолак, для эфирообразования применяют сульфокислоты. [2]
Область спектрального поглощения нафтохинондиазидов 320 - 460 нм отвечает максимальной УФ-эмиссии ртутных ламп среднего и высокого давления, что делает практический фотолиз особенно эффективным. Он зависит не только от природы самого нафтохинон-диазида и среды, в которой протекает фотолиз, но в значительной мере от природы и положения заместителей в полимерной составляющей. [3]
В резистный слой из нафтохинондиазида и НС дополнительно вводят примерно 0 04 от массы НС какой-либо полимер, например канифоль или ее производные [ пат. Канифоль придает печатной форме на анодированном алюминии стойкость к истиранию, улучшает и другие свойства резистных слоев [ см. также пат. [4]
Фоторезист ( на основе нафтохинондиазидов) наносится методом центрифугирования на стеклянную подложку с плоскостностью 1 - 4 кольца Ньютона по всей поверхности. Определяющим фактором в данном процессе является толщина фо-торезистивного слоя. [5]
В резистный слой из нафтохинондиазида и НС дополнительно вводят примерно 0 04 от массы НС какой-либо полимер, например канифоль или ее производные [ пат. Канифоль придает печатной форме на анодированном алюминии стойкость к истиранию, улучшает и другие свойства резистных слоев [ см. также пат. [6]
В нафталиновом ряду при этом одновременно образуются нафтохинондиазиды. [7]
Широкое техническое применение полимерных композиций на основе нафтохинондиазидов в значительной мере определяется их высокой адгезией практически ко всем используемым подложкам, а также очень высокой разрешающей способностью ( до 1400 лин / мм), обусловленной, в отличие от других слоев, задубли-ваемых светом, малым и неизменным до и после фотолиза размером молекул резиста. [8]
Оба этих максимума связаны с поглощением света молекулами нафтохинондиазида. [9]
 |
Образование рельефа фоторезистами. [10] |
Например, фоторезист № 383 представляет собой соединение нафтохинондиазида с новолаком. В качестве растворителя применяется диоксан. [11]
По представленным данным можно предполагать, что фоторезисты типа AZ представляют собой новолачную смолу с одним или несколькими видами нафтохинондиазидов, выступающими в качестве сенсибилизаторов. В состав комплекта растворителей входят некоторые из тех же самых жидкостей, которые используются и для негативных фоторезистов, например, целлозольвацетат, бутнлацетат, ксилол и толуол. Из перечисленных в табл. 7 фоторезистов наиболее пригодным для создания тонких линий методом травления тонких пленок является AZ-1350. AZ - 1350H по химическим свойствам идентичен AZ-1350, но он содержит большее количество твердого продукта и создает более толстые покрытия. Другие фоторезисты типа AZ-340 предназначены для глубинного травления и фотогравирования. Автопозитивный фоторезист фирмы Кодак KAR3 появился совсем недавно и публикации об опыте его применения пока отсутствуют. Экспонированные пленки проявляются в водных растворах. [12]
Модель построена на основе композиции позитивного резиста ( AZ - 1350J), образованного новолаком из крезола и формальдегида и широко применяемого замещенного нафтохинондиазида ( пат. [13]
В настоящее время основным типом формной пластины для офсетной печати являются монометаллические позитивные пластины, состоящие из алюминиевой основы и светочувствительного ( копировального) слоя на основе o / wio - нафтохинондиазидов. В результате процесса проявления отэкспонированной пластины на ней формируются изображения и закладываются физико-химические свойства пробельных и печатающих элементов. Важную роль в этом процессе играет химический состав проявляющего раствора. [14]
Типичным среди негативных фоторезистов является поливинилциннамат, имеющий разрешающую способность свыше 500 лин / мм и длинноволновую границу спектральной чувствительности 0 41 мкм. Позитивные фоторезисты создаются на основе нафтохинондиазида с новолаком, имеют разрешающую способность порядка 1000 лин / мм и границу спектральной чувствительности 0 48 мкм. [15]
Страницы: 1 2