Cтраница 2
Еще в 1966 г. Дельзен и Ларидон наблюдали, что слой, состоящий из близких массовых количеств НС и содержащего орто-нитрогруппу фенилсульфинилкарбоксилата в местах экспонирования приобретает способность растворяться в водно-спиртовом растворе щелочи [ пат. Очевидно, это соединение аналогично кислоте Мельдрума, нафтохинондиазидам и другим рассмотренным выше веществам ( см. гл. II) ингибирует растворение НС в щелочи, а после фотохимической перегруппировки и гидролиза, когда образуются замещенная о-нитрофенил-сульфиновая кислота и соответствующая карбоновая кислота, это ингибирование снимается. [16]
Из табл. 2 - 3 видно, что в нашей стране выпускается больше различных модификаций позитивных фоторезистов, нежели негативных. По имеющимся сведениям в состав позитивных фоторезистов входят различные модификации нафтохинондиазидов, что обеспечивает их высокую светочувствительность и разрешающую способность. Негативные фоторезисты ФН-11 и ФН-106 представляют собой полимерные композиции со светочувствительной добавкой органического бис-азида. Негативный фоторезист ФН-108 создан на основе производных нафтохинон-диазида. [17]
Продукты, образующиеся при диазотировании о-аминонафтс лов типа ( 3) или ( 4), отличаются исключительной для рассматр. Многие из них можн сульфировать, нитровать, кристаллизовать из горячей воды бе разложения. Это их свойство объясняется тем, что они имею строение соответствующих нафтохинондиазидов. Так, при диаз7 - тировании ( 3) получается 1 2-нафтохинон - 1-диазид - 4-сульфокислс та ( 5), а при диазотировании ( 4) - 1 2-нафтохинон - 2-ди; зид-5 - сульфокислота ( 6) ( ср. [18]
В фотополимерную композицию, например, на основе поли 3-циннамоилгндр оксиметакрилата, продукта конденсации я-фениленднакриловой кислоты 1 4-бис ( fi - гидроксиэтокси) циклогексана, сополимера fi - циннамоилгидроксиэтилме такрилата с метакриловой кислотой, тетраакрилата пентаэритрита, вводят не большое количество продукта реакции ацетона, пирогаллола, 4-сульфохлорид; 2-дназо - 1-иафталинона; возможна добавка сенсибилизатора. Если пленку ре зиста экспонировать кратковременно, то успевает прореагировать только хинон диазид, и после щелочного проявления получают позитивное изображение шаб лона на подложке. Последующее более длительное сплошное экспонирован позволяет получить высокопрочную и тиражеустойчивую печатную форму Если же первоначальное экспонирование провести длительно, чтобы прошл, полимеризация ненасыщенных соединений композиции, а затем дать краткуи общую экспозицию и проявить щелочью, то получается негативный высокопроч ный рельеф [ пат. К этой работе по-видимому, близко примыкает и пат. США 4268602; авторы создают высоко чувствительную резистную систему из преполимеров аминосодержащих иена сыщенных соединений и небольшого количества нафтохинондиазида. [19]
В фотополимерную композицию, например, на основе поли ( 3-циннамоилгидр-оксиметакрилата, продукта конденсации я-фенилендиакриловой кислоты и 1 4-бис ( 5-гидроксиэтокси) циклогексана, сополимера ( 3-циннамоилгидроксиэтилме-такрилата с метакриловой кислотой, тетраакрилата пснтаэритрита, вводят небольшое количество продукта реакции ацетона, пирогаллола, 4-сульфохлорида 2-диазо - 1-нафталинона; возможна добавка сенсибилизатора. Если пленку ре-зиста экспонировать кратковременно, то успевает прореагировать только хинон-диазид, и после щелочного проявления получают позитивное изображение шаблона на подложке. Последующее более длительное сплошное экспонирование позволяет получить высокопрочную и тиражеустойчивую печатную форму. Если же первоначальное экспонирование провести длительно, чтобы прошла полимеризация ненасыщенных соединений композиции, а затем дать краткую общую экспозицию и проявить щелочью, то получается негативный высокопрочный рельеф [ пат. К этой работе, по-видимому, близко примыкает и пат. США 4268G02; авторы создают высокочувствительную резистную систему из преполимеров аминосодержащих ненасыщенных соединений и небольшого количества нафтохинондиазида. [20]