Общая нерезкость
Cтраница 1
Общая нерезкость при радиографическом контроле характеризуется размытостью краев изображения на снимке. [1]
 |
Схемы образования геометрической нерезкости при ступенчатом ( а и овальном ( б дефекте. [2] |
Общая нерезкость изображения и ( мм) характеризуется размытием краев изображения на снимке. Величина нерезкости при просвечивании зависит от следующих ее составляющих. [3]
 |
Схемы образования геометрической нерезкости при ступенчатом ( а и овальном ( б дефекте. [4] |
Общая нерезкость изображения зависит от характера распределения геометрической нерезкости, связанной с формой дефекта или элемента эталона чувствительности. [5]
Общая нерезкость изображения кроме перечисленных дефектов зависит также от формы дефекта или эталона чувствительности. [6]
 |
Схемы образования геометрической нерезкости при ступенчатом ( а и овальном ( б дефектах. [7] |
Общая нерезкость изображения и ( мм) характеризуется размытием краев изображения на снимке. Величина нерезкости при просвечивании зависит от следующих ее составляющих. [8]
Общая нерезкость изображения зависит от характера распределения геометрической нерезкости, связанной с формой дефекта или элемента эталона чувствительности. [9]
 |
Зависимость абсолютной чувствительности Wa6c от толщины стали для различных источников излучения. [10] |
Общая нерезкость изображения определяется воздействием нескольких видов нерезкостей: геометрической, внутренней, нерезкости рассеяния и смещения. [11]
 |
Схемы образования геометрической нерезкости при ступенчатом ( а и овальном ( 6 дефектах. [12] |
Общая нерезкость изображения и ( мм) характеризуется размытием краев изображения на снимке. Величина нерезкости при просвечивании зависит от следующих ее составляющих. [13]
Общая нерезкость изображения зависит от характера распределения геометрической нерезкости, связанной с формой дефекта или элемента эталона чувствительности. [14]
Общую нерезкость изображения определяют наличием нескольких видов нерезкостей. Геометрическая нерезкость нг d & l ( F - б), где d - диаметр фокусного пятна источника излучения; F - расстояние от источника излучения до эмульсии пленки ( фокусное расстояние); 6 - толщина контролируемого изделия. [15]
Страницы: 1 2 3