Cтраница 3
Полоса 285 ммк, по нашему мнению, характеризует центры, при облучении стекла возникающие из центров Се3 либо в результате их ионизации, либо в результате локализации вблизи них электронов, освобожденных при облучении из структурной сетки стекла. Что касается минимума при 240 ммк, то он возникает, по-видимому, в результате восстановления ионов Се4 до трехвалентного церия. При этом образуются центры, либо сходные с центрами, характеризуемыми полосой 285 ммк, либо центры трехвалентного церия, которые переходят в центры, характеризуемые полосой 285 ммк. При этом образуются также центры видимого изображения, характеризуемые полосой 405 ммк. Опыты с повторным облучением показывают, что интенсивность полосы при 285 ммк в значительно большей мере зависит от уменьшения поглощения при 315 ммк, чем от минимума при 240 ммк. При облучении стекла происходит ионизация иона Се3 и локализация электронов на уровне С. При термообработке стекла электроны освобождаются с уровня С и попадают на уровни А и В, отвечающие возбужденным состояниям атомарных центров Ag и ионов Се3 соответственно, откуда они могут попасть либо в основные состояния этих центров на уровни А и В соответственно, либо снова возвратиться в зону проводимости за счет тепловой энергии. Очевидно, что стекло будет обладать тем большей светочувствительностью, чем больше электронов попадет на уровень А, что в свою очередь, будет существенным образом зависеть от положения уровней А и В относительно зоны проводимости. [31]
В некоторых исследованиях [40] было показано, что облучение приборных окон из щелочных стекол интегральным потоком тепловых нейтронов до 1013 нейтрон / см2 не приводит к заметному потемнению. Однако при потоках до 1014 нейтрон / см2 наблюдается слабое потемнение. Уменьшение прозрачности стекол, по-видимому, не влияет на работу или точность прибора, но влияние излучения на уплотнение между стеклом и металлом может быть вредным из-за изменения плотности стекла. Результаты экспериментов по облучению стекол, особенно содержащих бор, показывают, что большое выделение энергии атомами отдачи является причиной того, что стекло становится более плотным и поэтому возникают напряжения, достаточные для разрушения связи между стеклом и металлом. [32]
Наиболее распространено катодное распыление металлов в вакууме. Так, в атмосфере аргона, получают металлические зеркальные покрытия. В окислительной среде, при возбуждении тлеющего разряда в кислороде, когда разрядное пространство становится высокоактивной средой, поверхность изделий, расположенных на некотором расстоянии от катода, покрывается пленкой окисла. Данный метод известен в литературе как метод получения пленок реактивным распылением. Основное преимущество данного метода - возможность получения пленок, состав которых отвечает термически и химически устойчивым соединениям. Кроме того, адгезия пленок из окислов к поверхности стекла и их твердость значительно выше, чем у пленок, состоящих из сульфидов или фторидов, получаемых методом термического испарения. Методом реактивного распыления целесообразно получать тонкие интерференционные светоделительные, просветляющие и защитные пленки на деталях оптических приборов, предназначаемых для работы в условиях повышенной влажности и температуре 30 С. Однако метод катодного распыления не применим для стекол, содержащих в своем составе большое количество окислов свинца. Причинами этого считают электронную и ионную бомбардировку, облучение стекла ультрафиолетовой радиацией, в результате чего окислы свинца восстанавливаются до металлического свинца. [33]