Образование - оксидная пленка
Cтраница 2
В настоящей работе изучается образование оксидной пленки на аноде с тонкими глубокими цилиндрическими порами под действием протекающего тока. Чтобы ответить на вопрос, как образуется пленка в глубине поры, нужно знать закон распределения тока на поверхности поля в любой момент времени. [16]
В настоящей работе изучается образование оксидной пленки на аноде с тонкими глубокими цилиндрическими порами под действием протекающего тока. [17]
 |
Влияние количества адсорбированного кислорода на скорость его поглощения железным порошком. [18] |
Теперь необходимо рассмотреть процесс образования первичной оксидной пленки. [19]
Присутствие хлорида натрия мешает образованию оксидной пленки Ni2O3 на аноде, что иногда имеет место и обнаруживается по потемнению анода. Образование пленок на анодах мешает их участию в электролизе. Процесс ведется с растворимыми никелевыми анодами. Электролиз солей никеля происходит с большой катодной поляризацией и приводит к появлению мелкокристаллических осадков. [20]
Устойчив на воздухе благодаря образованию оксидной пленки. Применяется в красных люминофорах для экранов цветного телевидения; в рентгеновских фильтрах, сверхпроводниках, специальных сплавах. [21]
В жестких соединительных контактах защита от образования оксидных пленок внутри контактов производится путем смазывания контактных поверхностей специальными смазками перед сборкой и окрашиванием их после сборки сверху теплостойкими красками. [22]
Какая доля анодного тока затрачена на образование оксидной пленки СиО, на анодное растворение меди в электролите, на выделение кислорода. [23]
Выбор оптимальной температуры раствора определяется скоростями образования оксидной пленки и разложением персульфата. Так, при температурах от 60 до 100 образующаяся пленка имеет одинаковую толщину 1 - 1 5 мк, но при высоких температурах увеличивается расход персульфата. При температурах ниже 60 ухудшается внешний вид пленки. [24]
Выбор оптимальной температуры раствора определяется скоростями образования оксидной пленки и разложения персульфата. При температуре от 60 до 100 С образующаяся пленка имеет одинаковую толщину 1 - 1 5 мкм. При высоких температурах увеличивается расход персульфата. [25]
Гидрофобизация поверхности кислородом происходит в результате образования оксидной пленки. Последний процесс для золота, по-видимому, не характерен, а может быть отнесен к влиянию примесей, которые могут присутствовать в частицах золота. [26]
Первая задержка на кривой / соответствует образованию оксидной пленки PdO. При потенциале 1 3 В начинается окисление щавелевой кислоты. Как видно из рис. 5 - 13, на ней отсутствует первая задержка. Таким образом, окисление щавелевой кислоты протекает на окисленной поверхности палладиевого электрода. [27]
Такие значения могут быть связаны с образованием оксидной пленки так и с переносом зарядов через границу раздела металл - раствор. С потерей воды из пленки, изменением структуры, состава и толщины ржавчины величина емкости уменьшается, а сопротивление становится очень высоким. [28]
 |
Схема устройства электро. [29] |
Большинство металлов окисляется кислородом воздуха с образованием поверхностных оксидных пленок. Однако эти пленки в силу, незначительной толщины не обеспечивают надежной защиты от коррозии. Особенно слабы в этом отношении естественные пленки на железе. [30]
Страницы: 1 2 3 4