Cтраница 3
При Е ] 2 0 - - 2 1 В образуются фазовые слои низшего окисла под слоем высшего окисла МеО [0] адс. [31]
Основным веществом контакта, принимающим участие в процессе образования водорода, является железо или его низший окисел ( FeO), которые после окисления водяным паром могут снова отдавать свой кислород некоторым восстановителям. [32]
По Тилю и Кельшу ( 451 ], 1п203 при температуре выше 1000 переходит в низший окисел с отщеплением заметных количеств кислорода. [33]
Шлак, выдуваемый при резке, имеет сложный состав и содержит, кроме Fe3O4, низший окисел FeO, а также значительное количество ( иногда до 30 %) металлического железа. [34]
Классический лабораторный метод приготовления хлорокиси ванадия заключается в восстановлении пяти-окиси ванадия водородом с последующим хлорированием низшего окисла. Эти процессы проводят в стеклянных трубках при низкой температуре. Если температура во время хлорирования становится слишком высокой, окисел приплавляется к стеклу, спекается, и большая часть окисла не хлорируется. При этом бывают случаи, когда трубка трескается. Эти трудности устраняются, если перед хлорированием окись ванадия смешать с тонкоразмельченным древесным углем. Роль угля не выяснена, но во время реакции он не расходуется. [35]
Классический лабораторный метод приготовления хлорокиси ванадия заключается в восстановлении пяти-окиси ванадия водородом с последующим хлорированием низшего окисла. Эти процессы проводят в стеклянных трубках при низкой температуре. Если температура во время хлорирования становится слишком высокой, окисел приплавляется к стеклу, спекается, и, большая часть окисла не хлорируется. При этом бывают случаи, когда трубка трескается. Эти трудности устраняются, если перед хлорированием окись ванадия смешать с тонкоразмельченным древесным углем. Роль угля не выяснена, но во время реакции он не расходуется. [36]
Подобно OsF8, пентафторид рутения легко гидролизуется, диспропорциони-руясь при этом с образованием тетраокиси и низшего окисла черного цвета. [37]
При взаимодействии жидких окислов с тугоплавкими металлами, как правило, происходит восстановление жидкого окисла до твердого низшего окисла и окисление металла - основы. Поскольку кинетика взаимодействия жидких окислов с тугоплавкими металлами определяется диффузией металла основы через слой образующихся окислов, то в процессе растекания контактную реакцию можно считать протекающей в монослое. [38]
При взаимодействии жидких окислов с тугоплавкими металлами, как правило, происходит восстановление жидкого окисла до твердого низшего окисла и окисление металла - основы. Поэтому при рассмотрении уравнения ( 1) для наших систем надо выразить ат ж ( статическое) через а. Поскольку кинетика взаимодействия жидких окислов с тугоплавкими металлами определяется диффузией металла основы через слой образующихся окислов, то в процессе растекания контактную реакцию можно считать протекающей в монослое. [39]
Метод состоит в определении количества электричества, необходимого для восстановления окисла либо до металла, либо до низшего окисла. Впервые он был использован Эвансом и Банвистером [614] для определения толщины пленки йодистого серебра, образующейся нз металлическом серебре, по количеству электричества, требующегося для восстановления пленки до металла. [40]
Таним образом, нитробензоаты могут одновременно приводить к вытеснению воды с поверхности металла, защелачива-нию приэлектродного слоя и переводу низшего окисла в сел более высокой степени окисления. [41]
Для получения закиси пригоден любой из окислов никеля, так как при высоких температурах происходит отщепление кислорода с образованием низшего окисла никеля. [42]
При электролитическом способе производства марганца исходную руду обычно подвергают восстановительному обжигу для перевода нерастворимых высших окислов марганца типа МпОз в низший окисел МпО, а огарок подвергают сернокислотному выщелачиванию с переводом марганца в раствор в виде MnSCU. Полученный раствор очищают от вредных примесей и направляют на электролиз с нерастворимыми анодами. [43]
При высоких давлениях и температурах определяющим звеном и механизмом становится диффузия, в частности диффузия через восстановленный слой металла или низшего окисла. В зависимости от состояния восстановленного слоя может осуществляться диффузия молекул газа восстановителя и в обратном направлении газовых продуктов реакции. При плотной кристаллической структуре восстановленного слоя осуществляется диффузия ионов Fe2 и Fe3 к зоне реагирования. Диффузионный механизм характерен для низа шахты и распара. [44]
Стационарное для данного1 потенциала состояние поверхности достигается тогда, когда сумма скоростей электрохимической посадки кислорода и извлечения металлических атомов из ячеек низшего окисла становится равной общей скорости обратного катодного восстановления образованных таким образом ячеек высшего окисла. Несколько упрощая задачу и ( пренебрегая относительно медленным процессом растворения металлических атомов:, легко1 видеть, что в остальном задача, о равновесном для данного потенциала заполнении поверхности растворенным в решетке, высшим окислом ничем, по существу, не отличается от хорошо известной задачи о заполнении хемосорбцйонного слоя. [45]