Последующий отжиг - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Цель определяет калибр. Законы Мерфи (еще...)

Последующий отжиг

Cтраница 1


1 Слюдяной чувствительный элемент термометра сопротивления. 1 - обмотка. 2 - каркас. 3 - вывод с втулкой.| Чувствительный элемент тзрмомстра сопротивления на керамич. каркасе. 1 - выводы элемента. 2 - керамический каркас. 3 - засыпка изоляц. порошком. 4 - измерит, спираль. 5 - термоцемент. [1]

Последующий отжиг при той же темп-ре восстанавливает первоначальное уд. Вероятный механизм этого явления: растворение в решетке германия меди, диффундирующей с поверхности или ранее осажденной на дислокациях; медленный отжиг приводит к осаждению меди на структурных дефектах и уходу ее из решетки. Возможно также и возникновение новых дефектов структуры при быстром охлаждении. Оба эти механизма могут уменьшать время жизни, что и устанавливается экспериментально.  [2]

Последующий отжиг восстанавливает исходную макропорошковую картину в листах. Делается вывод о том, что в отожженных листах существует одно устойчивое состояние магнитной макроструктуры, определяемое кристаллической структурой материала.  [3]

Последующий отжиг при - 400 повышает твердость покрытия до 600 - 800 ЯКи улучшает его сцепление с осн.  [4]

Последующий отжиг для ряда сталей ( ШХ15, ШХ15СГ, 40Х и др.) не требуется, так как откалиброванная поковка имеет микроструктуру мелкозернистого перлита, наиболее благоприятную для последующей обработки резанием.  [5]

6 Слюдяной чувствительный элемент термометра сопротивления. 1 -обмотка. 2-каркас.. 5 - вывод с втулкой.| Чувствительный элемент термометра сопротивления на керамнч. каркасе. 1 - выводы элемента. 2 - керамический каркас. 3 - засыпка изоляц. порошком. 4 - измерит, спираль. а - тсрмоцемент. [6]

Последующий отжиг при той же-темп-ре восстанавливает первоначальное уд. Вероятный механизм этого явления: растворение в решетке германия меди, диффундирующей с поверхности или ранее осажденной на дислокациях; медленный отжиг приводит к осаждению меди на структурных дефектах и уходу ее из решетки. Возможно также и возникновение новых дефектов структуры при быстром охлаждении. Оба эти механизма могут уменьшать время жизни, что и устанавливается экспериментально.  [7]

Последующий отжиг при - 400 повышает твердость покрытия до 600 - 800 HV и улучшает его сцепление с осн.  [8]

Последующий отжиг пленок CdS на воздухе приводит к увеличению их удельного сопротивления примерно до 107 Ом см и появлению сильной фотопроводимости.  [9]

При последующем отжиге или нормализации стали она приобретает нормальные механические свойства.  [10]

При последующем отжиге, если температура достаточно высока, возникают зародыши зерен, в которых отсутствуют напряжения, и будет происходить рост зерен этой ненапряженной фазы. Такой процесс называется рекристаллизацией, а температура, выше которой этот процесс протекает с заметной скоростью, называется температурой рекристаллизации.  [11]

В результате последующего отжига, проводимого в определенном режиме времени и температуры, твердые компоненты пасты прочно соединяются с подложкой. На поверхности прибора или схемы может быть создано защитное покрытие из смолы. Более надежную защиту обеспечивает герметизация в прозрачной оболочке, в металлическом или керамическом корпусе. При использовании данного метода капиталовложения и текущие расходы относительно невелики, для обслуживания оборудования не требуются высококвалифицированные и опытные операторы, а переход на изготовление новой продукции при изменении формы прибора или конструкции схемы осуществляется просто и без больших затрат.  [12]

13 Зависимости концентрации дырок ( 1 и коэффициента термо - ЭДС ( 2 в пленках р - Bio Sbi Teg от температуры подложки.| Зависимости концентрации электронов ( 1 и коэффициента термо - ЭДС ( 2 от температуры подложки в пленках п - В12Те2 48ео6.| Зависимость подвижности дырок для пленок ( Bi, Sb 2Te3 от температуры подложки.| Зависимость коэффициента термо - ЭДС ( 1 и электропроводности ( 2 для пленок р - Bio 5Sbij5Te3, полученных лазерным напылением, от температуры подложки. [13]

С с последующим отжигом в атмосфере аргона при давлении, превышающем ОД Па ( для повышения однородности пленки), и кратковременным отжигом ( 3 - 5 мин) в вакууме для отгонки непрореагировавшего теллура.  [14]

Нормализации с последующим отжигом подвергаются поковки прецизионных подшипников, а также поковки, не имеющие структуры мелкопластинчатого перлита, что бывает при несоблюдении теплового режима ковки.  [15]



Страницы:      1    2    3    4