Cтраница 3
Наилучшим методом испарения тугоплавких окислов является нагрев электронным лучом. При этом Рейчелт и Мюллер [152] во избежание загрязнений от подставки фокусировали луч на малой части относительно большого кристалла испаряемого вещества. Однако окислы Ti, Zr, Nb, Та и Сг испаряются с разложением, на что указывает изменение окраски испаряемого кристалла. Значительный практический интерес представляет осаждение стехиометрических пленок ТЮ2 вследствие их высокого показателя преломления. Однако ТЮ2 очень легко теряет кислород, и обычно получаются нестихиометрические пленки, которые интенсивно окрашены и имеют полупроводниковую проводимость. С помощью этого метода сведено к минимуму разложение испаряемого вещества вблизи фокальной точки, поскольку эти области быстро нагреваются до температур, при которых давление паров низших окислов достаточно велико, чтобы происходило согласованное испарение. Для того, чтобы избежать восстановления окислов углеводородами остаточных газов, используют безмасляную откачку установок. [31]