Охлаждение - расплав
Cтраница 3
Процесс охлаждения расплава, отмеченного точкой 2, протекает более сложно. [31]
Процесс охлаждения расплава, отмеченного точкой 1, протекает еще более сложно. При охлаждении расплава до температуры tt, наблюдаемые изменения в системе аналогичны тем, которые были рассмотрены в предыдущем случае. При определенной температуре из расплава выделяется первый кристалл твердого раствора р, а при охлаждении до температуры t в системе происходит описанная выше перитектическая реакция. Та - - ким образом, появляется третья фаза - твердый раствор а. [32]
Скорость охлаждения расплава в интервале температур графитообразования ( от эвтектической до эвтектоид-ной температур) является важным фактором, определяющим графитизацию и структуру металлической массы. [33]
Скорость охлаждения расплава, помимо объема, определяет ряд других факторов. [34]
 |
Диаграмма состояния двухкомпо-нентной системы с неограниченной растворимостью компонентов в жидком состоянии и ограниченной растворимостью в твердом состоянии ( тип II. [35] |
Процесс охлаждения расплава, отмеченного точкой 2, протекает более сложно. [36]
 |
Диаграмма системы нефелин - анортит. [37] |
Процесс охлаждения расплава, отмеченного точкой /, протекает еще более сложно. [38]
При охлаждении расплава BeF2 ( как и Si02) в большинстве случаев образуется стекло. Стеклообразный BeF2, по Варрену ( Warren, 1934), имеет структуру, совершенно аналогичную силикатным стеклам ( см. стр. Структуры кристаллических BeF2 и Si02 также близки; выше 516 BeF2 кристаллизуется по типу ( 5-кристобалита, ниже 430 - а-кварца. [39]
При охлаждении расплава образуются однородные кристаллы. [40]
При охлаждении расплава, состав которого в точности отвечает составу эвтектики ( фигуративная точка с), кристаллизация начинается в точке / без предварительного выделения одного-из компонентов. [41]
По охлаждении расплава до 70 - 80 С добавляют 500мл этанола, смесь нагревают до кипения и фильтруют горячей. [42]
При охлаждении расплавов, более богатых NaaO, чем соединение Na20 - SiOa, кристаллизуются лишь индивидуальные кристаллические соединения. [43]
При охлаждении расплава, начальное состояние которого изображено фигуративной точкой М на рис. 5.42, в точке, отвечающей пересечению пути охлаждения Mm с линией ликвидуса EiS, начинается кристаллизация чистого АВ. [44]
При охлаждении расплава как SiO2, так и BeF2 образуется стекло. Хлорид бериллия ВеС12 получают действием хлора на смесь ВеО с углем при 800 С. Это гигроскопичное, легко гидролизирующееся соединение. [45]
Страницы: 1 2 3 4 5