Дальнейшее охлаждение

Cтраница 1

Технологическая схема двухстадийного процесса получения акролеина окислением пропилена. [1]

Дальнейшее охлаждение достигается подачей воды в линию входа продуктов реакции в сепаратор 5, где происходит отделение сконденсировавшихся продуктов ( акролеин, предельные альдегиды, вода) от паров и газов, содержащих непрореагировавший пропилен, следы акролеина и воды, оксид углерода, азот и в незначительном количестве углеводороды. Парогазовую смесь из сепаратора 5 направляют в абсорбер 6, орошаемый водой, и после абсорбции акролеина выходящий газовый поток делят на две неравные части. Меньший поток обогащают кислородом и возвращают в реактор 1 через теплообменник 2, а в больший поток после подогрева в подогревателе 7 добавляют воздух и направляют его на вторую стадию окисления в реактор 8, содержащий в качестве катализатора фосфоромолиб-дат висмута. Температура в реакторе 8 поддерживается несколько выше, чем в реакторе / ( 400 - 475 С) и регулируется температурой нагрева сырьевой смеси в подогревателе 7 и температурой воды, охлаждающей отенки реактора. [2]

Дальнейшее охлаждение с 78 до 25 происходит с испарением воды. [3]

Дальнейшее охлаждение проходит с выпадением влаги. [4]

Диаграмма плавкости тройной системы, состоящей из двойных систем с неограниченной растворимостью между компонентами и максимумами на кривых ликвидуса.| Диаграмма плавкости тройной системы, состоящей из двойных систем с неограниченной растворимостью между компонентами и минимумами на кривых ликвидуса. [5]

Дальнейшее охлаждение приводит к образованию твердой фазы, состав которой отвечает точке s и определяется положением конноды. По мере охлаждения путь кристаллизации сплава проходит по кривой И ] / а на поверхности ликвидуса. Состав твердой фазы изменяется по кривой SS ] S2 на поверхности солидуса. [6]

Зависимость термодинамического.| Термодинамический цикл ГТУ с изохорным подводом теплоты и регенерацией на и-р - диаграмме.| Термодинамический цикл ГТУ с изохорным подводом теплоты и регенерацией на s - T - диаграмме. [7]

Дальнейшее охлаждение ( 7 - 1) отработавших ГЗЗОР происходит в окружающей среде. [8]

Дальнейшее охлаждение до 140Г С характеризуется понижением температуры без каких-либо изменений кристаллической решетки. При 1401 С на кривой охлаждения появляется площадка, свидетельствующая о вторичной кристаллизации, или аллотропическом превращении Fea - FeT. Понижение температуры до 910 С вызывает новое аллотропическое превращение Fe7 - - Fea с образованием новой о. Дальнейшее понижение температуры с 910 С до комнатной не изменяет тип элементарной кристаллической ячейки. Однако при 768 С происходит остановка на кривой охлаждения, связанная с изменением магнитных свойств железа. [9]

Дальнейшее охлаждение производят на воздухе. [10]

Дальнейшее охлаждение ( 7 - 1) отработавших ГЗЗОР происходит в окружающей среде. [12]

Дальнейшее охлаждение до 80 - 110, при котором происходит кристаллизация твердого As2O3, осуществляют в холодильниках и пылеуловителях разных конструкций - осади-тельных камерах, полых башнях, рукавных фильтрах или электрофильтрах, в которых осаждается основная масса продукта в виде серого мышьяка. Улавливание остатков А 2О3 производят в оросительных башнях или в мокрых электрофильтрах, орошаемых водой. Иногда из холодильников газ поступает непосредственно в электрофильтры. [13]

Дальнейшее охлаждение на воздухе создает условия самоотпуска закаленного слоя детали за счет остаточной внутренней теплоты. [14]

Пространственная диаграмма состояния простой тройной системы.| Треугольная диаграмма состояния простой тройной системы. [15]

Страницы: 1 2 3 4 5