Электрический переход - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 3
Девиз Канадского Билли Джонса: позволять недотепам оставаться при своих деньгах - аморально. Законы Мерфи (еще...)

Электрический переход

Cтраница 3


Здесь Я2 обусловлено электрическими переходами в ультрафиолетовой области, вносящими основной вклад в нерезонансную нелинейную поляризацию в видимой и ближней инфракрасной областях. Вклады другой природы, например вызванные эффектом Керра, играют в твердотельных образцах в видимой и ближней инфракрасной областях незначительную роль.  [31]

Все рассмотренные ранее виды электрических переходов ( электронно-дырочный переход, контакт полупроводников с одинаковыми типами электропроводности, контакт металл - полупроводник) можно считать частными случаями более общего вида контактов - гетеропереходов.  [32]

Все рассмотренные ранее виды электрических переходов ( р-п-переход, п-п - переход, р-р - переход, переход Шотки) можно считать частными случаями общего вида электрических переходов - гетероперехода.  [33]

Все рассмотренные ранее виды электрических переходов ( р-и-переход, п-я - переход, р-р - переход, переход Шотки) можно считать частными случаями общего вида электрических переходов - гетероперехода.  [34]

35 Структуры полупроводниковых диодов, изготовленных способом вплавления ( а, диффузии ( б, эпитаксиального наращивания слоев ( в. структура точечного диода ( г и разрез маломощного плоскостного диода ( д. [35]

Полупроводниковый диод содержит обычно один электрический переход и имеет два вывода. Наиболее часто диоды создают на основе р-п переходов. В зависимости от формы р-п перехода различают плоскостные и точечные полупроводниковые диоды.  [36]

Основными являются классификации по типу электрического перехода и назначению диода.  [37]

Все эти переходы объединяются общим понятием электрический переход и используются в различных полупроводниковых приборах.  [38]

Широкое распространение получают ионно-лучевые методы изготовления электрического перехода диода. При ионной имплантации легирование пластины полупроводника осуществляется бомбардировкой примесными ионами, ускоренными до высоких энергий. Концентрация примесей в имплантированном слое зависит от плотности тока в ионном луче и времени экспозиции. Высокая контролируемость процесса и низкая температура позволяют проводить ионную имплантацию на любой стадии процесса изготовления диода. Глубина проникновения ионов в полупроводник зависит от их энергии. Изменяя энергию ионов, можно обеспечить сложный закон распределения примесей по глубине.  [39]

Транзистором называется электропреобразовательный полупроводниковый прибор с электрическими переходами, имеющий 3 выхода. Он состоит из двух последовательных, включенных навстречу, п-р-переходов.  [40]

Однако существуют два принципиальных различия между дипольными магнитными и электрическими переходами.  [41]

Линии поглощения слабы из-за того, что дипольные электрические переходы между мультиплетными уровнями запрещены правилом Лапорта.  [42]

В режиме насыщения или в инверсном режиме электрический переход п-п на границе скрытого слоя отражает дырки, инжектируемые из базы в коллектор. Поэтому при прямом смещении коллекторного перехода в структуре со скрытым слоем дырочная составляющая тока этого перехода ниже, чем в структуре без скрытого слоя, следовательно, увеличивается инверсный коэффициент передачи.  [43]

Структура реального диода содержит один или несколько электрических переходов. По конструктивно-технологическим особенностям электрических переходов различают точечные, микросплавные, сплавные, диффузионные, эпи-таксиальные, с барьером Шотки, поликристаллические и другие типы диодов.  [44]

45 Конструкция точечного р - л-перехода. [45]



Страницы:      1    2    3    4